Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #293587951 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein multifunktionales System für die Inspektion von IC (integrierte Schaltung) Masken und Wafer entwickelt. Das Gerät kombiniert eine erstklassige optische Bildgebungsstation und fortschrittliche Fehlererkennungsalgorithmen, um eine schnelle, genaue und hochauflösende Inspektion von Masken und Wafern zu ermöglichen. Die Maschine verfügt über eine hochmoderne optische Bildgebungsstation, die mit mehreren DCI-LX-Kameras und fortschrittlichen Beleuchtungsquellen ausgestattet ist. Die Kameras werden verwendet, um hochauflösende Bilder der Masken und Wafer zu erfassen. Die Beleuchtungsquellen können verwendet werden, um Streulicht aus den Proben zu sammeln, um das Vorhandensein von undurchsichtigen Defekten auf der Waferoberfläche zu erkennen. Die erweiterten Fehlererkennungsalgorithmen des Tools können verwendet werden, um fehlende Polysiliziumlinien, erodierte Vias und Öffnungen auf den IC-Masken und Wafern zu erkennen. UCK 2131 Asset verfügt auch über erweiterte Datenanalysefunktionen. Das Modell kann automatisch Bilder der IC-Masken und Wafer verarbeiten, um Muster zu identifizieren, Anomalien zu erkennen und statistische Informationen zu extrahieren. Diese Informationen können zur Beurteilung der Qualität der IC-Masken und Wafer und zur Beseitigung möglicher Defekte verwendet werden. Die Geräte können auch verwendet werden, um die kritischen Abmessungen von IC-Schaltungen auf den Masken und Wafern zu messen. Das System ist auch in der Lage, automatisierte Wafer Defekt Klassifizierung. Mit dieser Funktion kann das Gerät Fehler automatisch als isoliert, gruppiert, linear oder erweitert klassifizieren. Diese Informationen können zur Ermittlung der Schwere der Fehler und zur Priorisierung von Korrekturmaßnahmen verwendet werden. Die Maschine TENCOR 2131 ist für den Einsatz in einer Produktionsumgebung ausgelegt und kann mit einem hohen Durchsatz arbeiten. Es kann mit dem Produktionssteuerungswerkzeug einer Fabrik verbunden werden, wodurch die Produktionslinie in Echtzeit gesteuert werden kann. Das Asset verfügt außerdem über ein erweiterbares Defekt-Repository, mit dem aktuelle Ergebnisse mit historischen Ergebnissen verglichen werden können. Diese Funktion ermöglicht ein umfassenderes Verständnis der Defekte an den IC-Masken und Wafern. 2131 Maske & Wafer Inspektionsmodell ist eine fortschrittliche und leistungsstarke Lösung für die Inspektion von IC-Masken und Wafern. Es kombiniert eine erstklassige optische Bildgebungsstation, erweiterte Fehlererkennungsalgorithmen und automatisierte Klassifizierung von Waferdefekten, um schnelle und genaue Ergebnisse zu liefern. Das Gerät verfügt auch über ein erweiterbares Defekt-Repository und kann an ein Produktionskontrollsystem angeschlossen werden, so dass es mit einer hohen Durchsatzrate arbeiten kann.