Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #293815220 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die anspruchsvollsten Produktions- und Volumendurchsatzanforderungen entwickelt wurde. Das umfassende UCK 2131 Advanced Defect Inspection System bietet den führenden Halbleiterherstellern der Branche eine leistungsstarke Kombination von Funktionen, einschließlich tiefgehender Wafer- und Retikle-Fehlererkennung. TENCOR 2131 wurde entwickelt, um die anspruchsvollen Anforderungen der Produktion, Qualität und Prozesskontrolle innerhalb einer Einheitsplattform zu erfüllen. 2131 Maschine enthält eine mehrkanalige optische Architektur, hochauflösende Abtaststufe und schnelle Bilderfassung. Diese Kombination schafft ein Hochdurchsatz-Inspektionswerkzeug, das die Kapazität hat, 300mm, 200mm und kleinere Formgrößen zu überprüfen, die optische Auflösungen von 0,7 Mikrometer bis 5 Mikrometer unterstützen und die größte Auswahl an Gerätegeometrien abdecken. Die Anlage ist in einem vollautomatischen, leisen und benutzerfreundlichen Design untergebracht, das zur Optimierung des Prozesses und zur Verkürzung der Zykluszeit entwickelt wurde. KLA/TENCOR 2131 bietet integrierte erweiterte Fehlererkennungsfunktionen, mit denen Kunden die tatsächlichen Ergebnisse mit der erwarteten Leistung vergleichen können. Die Fehlererkennungssoftware benachrichtigt Benutzer über Anomalien in einem Prozess, wie z. B. Fehler in kritischen Dimensionen und andere kleinere Leistungsprobleme. Das Modell bietet auch eine anpassbare grafische Benutzeroberfläche, die einfach zu bedienen und leicht zu verstehen ist. KLA 2131 bietet optische Schichtprüfung mit 4 oder 8 Schichtmodellen, die für bestimmte Technologien optimiert sind. Es ermöglicht Benutzern, bestimmte Schichten oder eine Kombination von Schichten zu überprüfen (um die Genauigkeit der Inspektion zu optimieren). Es hat auch einen weiten Dynamikbereich, der es den Benutzern ermöglicht, unterschiedliche Materialdicken oder Schichtmuster zu kompensieren. TENCOR 2131 ist in der Lage, Messungen und Vergleiche an mehreren Standorten mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit durchzuführen. Das Gerät umfasst auch kartenbasierte Fehlerüberprüfungsfunktionen wie Fehlerscanner und Kartenanzeiger, die Benutzern helfen, die Prozessergebnisse zu visualisieren und schnelle Entscheidungen zu treffen. Darüber hinaus bietet es nicht-optische Inspektionsmöglichkeiten auf Waferebene wie 3D-kritische Dimension, Mikrographenprüfung und automatisiertes Stitch Probing. 2131 bietet erweiterte Datenerfassungs- und Analysefunktionen wie Berichtsgenerierung, Histogramme und Trendanalyse zur Unterstützung der Prozess- und Ertragskontrolle. Die Daten aus dem System können in SPC-formatierten Dateien für den Einsatz in Datenanalysetools gespeichert werden. Insgesamt ist KLA/TENCOR 2131 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die für die anspruchsvollsten Produktions- und Volumendurchsatzanforderungen entwickelt wurde. Es verfügt über eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche, leistungsstarke Fehlererkennungssoftware, kartenbasierte Fehlerüberprüfungsfähigkeiten und robuste Datenerfassungs- und Analysefunktionen. Diese Maschine gewährleistet eine präzise Fehlerinspektion und Prozesskontrolle auf einer Vielzahl von Halbleiterstrukturen unterschiedlicher Größe und Form.