Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #293820148 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind eine Wafer-Fehlererkennungsplattform, die fortschrittliche Mustererkennungstechnologien verwendet, um Fehler auf Wafern zu erkennen und zu analysieren. Es ist eine umfassende Plattform für die Retikel- und Waferfertigung, die Defekte schnell bis in den kleinsten Bereich identifizieren kann, sowohl in regelmäßiger als auch in ultrahoher Auflösung. Das System verfügt über eine Auswahl an erweiterten Funktionen, um eine genaue, schnelle und effiziente Fehlererkennung zu gewährleisten. Das Gerät umfasst ein hochauflösendes optisches Mikroskop mit einer digitalen Bildgebungsmaschine für maximale Präzision, eine Hochgeschwindigkeits-Scanfähigkeit für große Flächenabdeckung und hohen Durchsatz und einen dedizierten industriellen Computer für schnelle Datenverarbeitung und -analyse. Das Tool bietet auch erweiterte spektroskopische Analyse, um falsche Fehler und falsche Negative zu erkennen, und kann konfiguriert werden, um eine Vielzahl von spezifischen Fehleranalyse-Algorithmen auszuführen. Das Asset umfasst auch eine umfassende Schnittstelle zur Fehleranalyse, um eine detaillierte Überprüfung und Analyse der Ergebnisse zu ermöglichen. Dazu gehören Diagramme, Diagramme und Bilder, mit denen Fehler identifiziert und klassifiziert werden können. Eine automatisierte Fehleranalyse, Scanschwellenanpassung und Fehleranalyse stehen ebenfalls zur Verfügung, um den Prozess zu rationalisieren. Insgesamt ist das Masken- und Wafer-Inspektionsmodell KLA 2131 so konzipiert, dass es eine unschlagbare Kombination aus Genauigkeit, Geschwindigkeit und Effizienz bietet. Die Kombination aus fortschrittlichen Scantechnologien und detaillierten Fehleranalyse-Funktionen macht es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Front-End und Back-End-Fertigung von integrierten Schaltungen. Seine zuverlässige Leistung und die einfache Integration in bestehende Systeme machen es auch zu einer attraktiven Wahl für die Wafer-Fehlererkennung.