Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #293824933 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für Halbleiterhersteller entwickelt wurde, um qualitativ hochwertige Produkte sicherzustellen. Es verwendet fortschrittliche Lichtmikroskopie-Technologie, um 20nm Auflösung auf der Wafer- und Maskenebene zur Verfügung zu stellen. Das System besteht aus mehreren Teilsystemen, darunter einem fortgeschrittenen optischen Teilsystem, einem Bewegungssteuerungs-Teilsystem, einem Steuerungs- und Messungs-Teilsystem und einem Probenhandling-Teilsystem. Herzstück der Einheit ist das fortschrittliche optische Teilsystem, das aus mehreren Komponenten besteht, darunter eine Präzisionsoptik, ein Bilderfassungswerkzeug und eine Bildanalyse. Das optische Präzisionsmodell verwendet Objektive mit hochwertigen Mikroskopobjektiven, um hochauflösende Bilder der Probe bereitzustellen. Die Bilderfassungsausrüstung ist in der Lage, entweder einzelne oder mehrere Pässe über die Probe und kann sowohl Box-Scans und Line-Scans. Das Bildanalysesystem dient zur Erkennung von Defekten sowohl auf Masken- als auch auf Waferebene. Das Teilsystem „Bewegungssteuerung“ sorgt für eine präzise Steuerung der Position des optischen Teilsystems über der Probe. Es besteht aus mehreren hochpräzisen Motoren und Reglern, die es dem Gerät ermöglichen, Feineinstellungen vorzunehmen, um hochgenaue Ergebnisse zu erzielen. Das Steuer- und Messteilsystem dient zur Steuerung der gesamten Einheit und zur Erfassung von Messungen aus der zu untersuchenden Probe. Sie besteht aus mehreren Einheiten, darunter einer Zentraleinheit, einem Datenspeicher, einem Display und einer Eingabeeinrichtung. Das Datenspeicherwerkzeug speichert die vom optischen Teilsystem erfassten Bilder zur späteren Überprüfung und Analyse. Das Anzeige- und Eingabegerät bietet dem Bediener Feedback und Steuerungsfähigkeit über das Asset. Das Teilsystem Probenhandling ist dafür verantwortlich, die Probe in das Modell einzubringen und nach Abschluss der Inspektion zu entfernen. Es besteht aus mehreren Komponenten, darunter ein Pick-and-Place-Teilsystem, ein Teilsystem für den Probentransport und ein Teilsystem für die Probenverarbeitung. Das Pick-and-Place-Subsystem legt die Probe auf die Bühne der Ausrüstung. Das Teilsystem Probentransport ist dafür verantwortlich, die Probe an die gewünschte Position zur Inspektion zu bringen. Schließlich ist das Teilsystem Probenbearbeitung für die Vorbereitung der Probe für die Inspektion abhängig vom erforderlichen Prozess verantwortlich. Abschließend ist KLA 2131 ein spezialisiertes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es verwendet fortschrittliche Optik-, Bewegungssteuerungs- und Muster-Handhabungssysteme, um eine Auflösung von 20 nm sowohl auf Masken- als auch auf Waferebene bereitzustellen. Die Einheit ist zuverlässig und effizient und ermöglicht schnelle und genaue Ergebnisse für jeden Halbleiterherstellungsprozess.