Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #9158749 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung wurde entwickelt, um hohe Genauigkeit, hohe Überprüfungsfähigkeit und wiederholbare Ergebnisse für Maske und Wafer Inspektionen in der Halbleiterherstellung zu bieten. Dieses automatisierte Inspektionssystem kann bis zu 70.000 Masken und Wafer pro Stunde überprüfen und verwendet eine 5-Zoll-FOV-kollimierte Laseroptik und eine CCD-basierte Bildaufnahmeeinheit mit einer Auflösung von 1 Mikron pro Pixel. KLA 2131 Mask & Wafer Inspection Maschine ist mit einem leistungsfähigen Bildverarbeitungsalgorithmus ausgestattet, der eine schnelle und genaue Erkennung und Identifizierung von Defekten bis zu 0,2 Mikrometer ermöglicht. Dieses Tool enthält auch mehrere integrierte Funktionen, um Qualität zu gewährleisten, wie Echtzeit-Ausrichtung und Autofokus. Darüber hinaus ist die Anlage mit einem leistungsstarken, Vision-basierten Fehlerinspektionsmodell ausgestattet, das in der Lage ist, Masken und Wafer auf Mängel, Verschmutzungen und Ausrüstungskomponenten zu überprüfen. TENCOR 2131 Mask & Wafer Inspektionssystem wurde entwickelt, um die einfache Integration mehrerer Plattformen, Qualitätskontrollwerkzeuge und verschiedene Arten von Geräten zu ermöglichen. Dieses Gerät ist kompatibel mit einer Reihe von integrierten Fehlerüberprüfungs- und Fehlercharakterisierungstools, wie Fehlerüberprüfungscomputern, Qualitätskontrollwerkzeugen und elektrischen Prüfsystemen. 2131 Maschine unterstützt auch mehrere Masken und Wafer gleichzeitig, was eine schnellere Überprüfung für große Wafer und Maskensätze ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Tool über ein Datenmanagement-Asset, das eine schnelle und genaue Überprüfung und Auflösung von Fehlerdaten ermöglicht, was die Effizienz des Inspektionsprozesses erhöht. Darüber hinaus bietet das Modell verschiedene Überwachungs- und Reporting-Funktionen, wie z.B. einen Process Monitor, der eine integrierte Ansicht des gesamten Masken- und Waferinspektionsprozesses in Echtzeit ermöglicht. Die Ausrüstung enthält auch eine High-Level-Steuerungssoftware (HLC), die angepasst werden kann, um verschiedene Fertigungsanforderungen zu erfüllen und die höchste Fehlerüberprüfungsgenauigkeit bereitzustellen. Insgesamt bietet das System KLA/TENCOR 2131 eine schnelle und genaue Inspektion für Masken und Wafer mit wiederholbaren Ergebnissen und ist in der Lage, sich mit einer Reihe von Fehlerüberprüfungs- und Fehlercharakterisierungswerkzeugen zu integrieren. Dieses Gerät verfügt auch über einen leistungsstarken Bildverarbeitungsalgorithmus, eine Datenverwaltungsmaschine und eine Reihe von Überwachungs- und Berichtsfunktionen, die eine hohe Fehlergenauigkeit gewährleisten.