Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #9210335 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die zur Erkennung von Defekten während des Halbleiterherstellungsprozesses verwendet wird. Das System verwendet eine fünfachsige motorisierte Stufe, um Bilder von Defekten zu sammeln, die das Potenzial haben, die Schaltungsleistung zu beeinträchtigen. Die Einheit wird mit zwei Kathodenstrahlelektronbalkentechnologierohren (CRT) und einer hohen Präzision Digitalkamera ausgestattet, um Bilder der Eigenschaften zu erwerben. Darüber hinaus verfügt die Maschine auch über eine Reihe von Software-Tools zur Automatisierung des Prozesses der Fehlererkennung, einschließlich Farbmaskierung und Mustererkennung Technologien. Durch die Kombination beider Bilderfassungssysteme ist KLA 2131 in der Lage, viel höhere Auflösungsbilder als viele herkömmliche Waferinspektionssysteme zu erhalten. Es verfügt auch über mehrere verschiedene Testmodi, wie Rasterelektronenmikroskop (SEM) Bildgebung, Auto-Fokus-Fähigkeiten, und Laser-Erkennung/Auflösung Inspektionen. Diese Eigenschaften bieten eine hervorragende Erkennungs- und Bildgebungsleistung, wodurch Defekte schnell identifiziert und behoben werden können. Das Werkzeug ist auch mit einer Reihe von telezentrischen Objektiven und Optik für hochpräzise Bildgebung ausgestattet. Diese Linsen können so konfiguriert werden, dass sie Bilder in bestimmten Winkeln und Auflösungen erfassen, wodurch Minisküldefekte erkannt werden können, die sonst auf niedrigeren Ebenen nicht erkennbar sein könnten. Darüber hinaus hat das Asset die Möglichkeit, Bilder in einer durchsuchbaren Datenbank zum einfachen Überprüfen und Vergleichen zu speichern. TENCOR 2131 ist ein leistungsstarkes Werkzeug für Halbleiterhersteller, da es eine beeindruckende Leistung und Genauigkeit bei der Fehlererkennung und -behebung bietet. Das Modell hilft auch, die Produktionskosten zu senken, indem es manuelle Inspektionen reduziert und Zeit spart. Die Kombination aus Bilderfassungssystemen, Software-Tools und telezentrischen Objektiven innerhalb von 2131 macht es zu einem der fortschrittlichsten verfügbaren Masken- und Wafer-Inspektionssysteme.