Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #9236722 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind für höchste Genauigkeit und Empfindlichkeit bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und -geräten aus einer breiten Palette von Materialien und Geometrien ausgelegt. Mit fortschrittlicher Optik und digitaler Bildverarbeitung ermöglicht diese Hightech-Maschine die zuverlässige Erkennung kleinster Defekte und Prozessanomalien während der Fertigungsphase. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von Wafer- und Maskeninspektionen und Messungen auf Wunsch des Benutzers durchzuführen, einschließlich Dünnschicht-Photomasken-Inspektion und Messung der Schichtdicke, Transparenz, Linearität und Dickengleichmäßigkeit. Die Optik der KLA 2131 ist darauf ausgelegt, eine Vielzahl von Maskenmerkmalen und Parametern mit außergewöhnlicher Empfindlichkeit zu überprüfen. Diese Merkmale und Parameter umfassen mikroskopische submikroskopische Merkmale wie Photomaskenlinien, Gitter, Quadrate und Kreise, Graben, Räume und Trennungen, Linienbreiten, Muster, Designs und Profile. Die Optik setzt eine Vollfeld-optische Inkohärenz und eine Z-Lifeline-Dynamik ein, um eine verbesserte Empfindlichkeit im Oberflächenscan zu erreichen. Durch die Verwendung der Z-Lifeline-Dynamik kann die Maschine auch kleinste Defekte mit hoher Genauigkeit und Empfindlichkeit erkennen. Durch die Verwendung spezieller Mustererkennungssoftware ist die Maschine in der Lage, verschiedene Formen und Strukturen sowohl auf der oberen als auch auf der unteren Oberfläche des Wafers oder der Maske zu identifizieren. Diese Software ermöglicht auch den Vergleich von Formen und Mustern zur Qualitätssicherung und ermöglicht eine eingehende Analyse von Oberflächenmerkmalen. Die Software kann zwischen erfolgreich abgeschlossenen Prozessen und Problemen oder Auffälligkeiten unterscheiden. TENCOR 2131 bietet weitere Analyse- und Anmerkungsfunktionen für Qualitätskontrollingenieure und liefert Daten in einem Point-and-Click-Format, um Probleme schnell zu identifizieren. Mit einer integrierten Einheit der Berichtsgenerierung ermöglicht diese Maschine eine präzise und genaue Ergebnisberichterstattung. Darüber hinaus kann die Software Ergebnisse mit kundenspezifischen Lichtquellen, Masken und spezifischen Parametern vergleichen. 2131 Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine ermöglicht überlegene Genauigkeit und Empfindlichkeit bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und -geräten. Die fortschrittliche Optik, die Mustererkennungssoftware und die Berichtsgenerierung machen es zu einer idealen Wahl für die Verarbeitung selbst präzisester Komponenten. Dieses ausgeklügelte Inspektions- und Messwerkzeug ermöglicht eine zuverlässige Erkennung von Unregelmäßigkeiten und einen präzisen Vergleich von Formen und Mustern zur Qualitätssicherung.