Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #9404525 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte bieten hochleistungsfähige, hochmoderne Halbleiter-Wafer-Inspektionen für Rasterelektronen und optische Mikroskope, die in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsanwendungen eingesetzt werden. Das System wurde entwickelt, um Fehler auf Photomasken und Wafern genau zu erkennen und zu klassifizieren und kann mehrere Fehler auf einem einzelnen Wafer genau klassifizieren. Das Gerät ist für Produktionsumgebungen konzipiert und skalierbar, um die Anforderungen der High-Volume-Wafer-Inspektionsaufgaben zu erfüllen. Die Maschine KLA 2131 verfügt über einen fortschrittlichen automatisierten Fehlerinspektionsalgorithmus, der kleine Fehler wie kaputte Brückenpaare, Nadelöcher und Hohlräume erkennen und gleichzeitig alternative Fehlerklassen wie Punktfehler, Partikel und Fransenmerkmale klassifizieren kann. Der automatisierte Erkennungs- und Klassifizierungs-Workflow dieses Tools kann eine Vielzahl von Fehlern auf dem Wafer erkennen, ohne zusätzliche Komplexität oder arbeitsintensive manuelle Operationen einzuführen, die einen hohen Durchsatz und zuverlässige Leistung ermöglichen. Das Asset kann detaillierte Daten sowohl in Form von 3D-topographischen Bildern als auch in Form quantitativer Spektralmessungen generieren und Nutzern genaue und umsetzbare Informationen über den Herstellungsprozess liefern. Das Modell bietet auch Software zur Verwaltung der Erkennungsalgorithmen von Kunden, zur Gruppierung von Wafern zur Analyse und zur Einrichtung komplexer Ausfallmodusanalysen. Die Software ermöglicht es Anwendern, ihre Inspektionsgeräte an ihre spezifischen Anwendungsanforderungen anzupassen und ihre Prozesse zu optimieren. Die proprietäre Wafer-Handling-Technologie der KLA ermöglicht ein nahtloses, luftloses Handling von Wafern und kann in bestehende Prozessmanagementabläufe integriert werden. Die fortschrittliche Vision-Einheit des Systems, kombiniert mit automatisierter Bewegungssteuerung, lokalisiert Fehler auf dem Wafer genau und kann sich schnell zwischen verschiedenen Substrathöhen bewegen, um mögliche Fehler bei der Handhabung von Substraten zu reduzieren. TENCOR 2131 verfügt auch über Kantenbeleuchtung und digitale Polarisationstechnologie, um nicht defekte Bereiche eines Wafers aufzuheben, so dass sich die automatisierte Maschine schneller auf die betroffenen Bereiche konzentrieren kann. Dieses Tool ist hochgradig konfigurierbar und kann an die Anforderungen einer Vielzahl von Inspektionsanwendungen und -prozessen angepasst werden. Abschließend ist 2131 ein fortschrittliches und zuverlässiges Gut zur Erkennung und Klassifizierung potenzieller Fehler auf Photomasken und Wafern. Dieses Modell bietet Anwendern einen hohen Durchsatz, detaillierte Daten sowie integrierte Software- und Hardwarefunktionen, die optimierte und genaue Fehlererkennungs- und Klassifizierungsprozesse ermöglichen.