Gebraucht KLA / TENCOR 2131E #9384645 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131E ist eine Hochleistungs-, Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Es ist die neueste Serie von mehrkanaligen bildbasierten Inspektionssystemen der UCK. Dieses System nutzt eine erweiterte Palette von Rechenwerkzeugen und Technologien, die einen umfassenden und systematischen Ansatz für die Inspektion von Wafern, Masken und anderen Verbundteilen bieten. KLA 2131E basiert auf der TENCOR TrueImage Technology Plattform, bestehend aus einer Reihe fortschrittlicher Inspektionsalgorithmen und bildgebenden Tools. Diese Einheit ist in der Lage, Verschmutzungen, Defekte, Unvollkommenheiten und Schwankungen an der Oberfläche der zu untersuchenden Gegenstände zu erkennen. Darüber hinaus kann die Maschine Größen, Winkel, Toleranzen und andere wichtige Parameter messen. Das fortschrittliche Inspektionstool nutzt auch die patentierte MaxBright Sensor Technologie, die im Vergleich zu früheren Modellen eine hervorragende Bildqualität erzeugt. Diese Technologie sorgt dafür, dass keine Details auf der Oberfläche der zu untersuchenden Objekte fehlen. Das Asset verwendet hochpräzise Multi-Megapixel-CMOS-Bildgebungssensoren, die bis zu 12 Millionen Pixel pro Frame bereitstellen. TENCOR 2131 E bietet darüber hinaus ein umfangreiches Spektrum an Inspektionsprogrammen, die speziell für eine effiziente und umfassende Fehlerbewertung entwickelt wurden. Dieses hochmoderne Modell verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der der Benutzer die am besten geeigneten Prüfkriterien und Parameter problemlos auswählen kann. 2131 E bietet schnelle und zuverlässige Leistung mit einem maximalen Durchsatz von bis zu 14000 Wafern pro Stunde. Dieses Gerät liefert die höchste Durchsatzrate seiner Klasse und wurde entwickelt, um eine hohe Auslastung während des Betriebs zu erreichen. Es bietet auch reduzierte Zykluszeiten und nahezu unendliche Fähigkeit der on-the-fly Datenerfassung und -analyse. Darüber hinaus ist KLA/TENCOR 2131 E mit einem fortschrittlichen Fehlerdiagnosesystem ausgestattet. Dadurch kann der Benutzer potenzielle Probleme schnell erkennen und beheben, Ausfallzeiten reduzieren und die Effizienz verbessern. Diese Einheit ermöglicht auch die Echtzeit-Wafer-Verfolgung und -Analyse, wodurch die Rüstzeiten erheblich reduziert und die Produktion beschleunigt wird. Insgesamt ist 2131E eine leistungsstarke, präzise und effiziente Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, die dazu beitragen kann, qualitativ hochwertigste Ergebnisse zu erzielen. Seine fortschrittlichen Funktionen machen es zu einem der fortschrittlichsten Systeme auf dem Markt und machen es zu einer idealen Lösung für viele Unternehmen und Branchen.