Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #139716 zu verkaufen
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ID: 139716
Wafer defect inspection system
Includes:
KLA / TENCOR 2132 wafer inspection unit (primary)
KLA / TENCOR 2132 wafer inspection unit (secondary)
KLA / TENCOR 2552 data analysis station
KLA / TENCOR 2132 power line conditioner
Specifications:
KLA / TENCOR 2132 wafer inspection unit (primary):
Label model: KLA-2131, front panel reads "2132"
Chuck installed: 8"
Power cable intact, all other cables cut
Front upper panel cover shocks / struts are worn
Missing: PC, 1-2 body panels
Power rating: 120VAC, 25A, 50/60Hz
1994 vintage
KLA / TENCOR 2132 wafer inspection unit (secondary):
Label model: KLA-2131, front panel reads "2132"
Body panel does not fully mount
Power rating: 120VAC, 3-phase, 25A, 50/60Hz
1994 vintage
Components:
KLA PC/IF 486/66 PC system, p/n 750-660859-00
Dual monitors
Keyboard
Trackball
Modules installed:
KLA PC/IF 486/66 PC system, p/n 750-660859-00
KLA Memory Controller Phase 3, p/n 710-658232-20
FAB, p/n 710-658085-00
(2) Mass Memory 2 Phase, p/n 710-658051-20
(2) KLA CornerTurn 3, p/n 710-655651-20
(2) Y-Interpolator, p/n 710-658172-20
(2) X-Interpolator, p/n 710-658177-20
UNIQUENESS Processor, p/n 073-658045-00
Alignment Processor Phase 3, p/n 710-658041-20
Alignment Processor (AP1), p/n 710-65803620
Defect Filter (H.R.), p/n 710-659724-00
Defect Processor Phase 3, p/n 710-658075-20
KLA DP, p/n 710-650099-20
KLA DD, p/n 710-650044-20
KLA DF FAB PH3073, p/n 073-65836-00
IB Module
RIF Module
KLA / TENCOR 2552 data analysis station:
Label model: KLA-2551X, front panel reads "2552"
Power rating: 120VAC, 20A, 50/60Hz
1994 vintage
Components:
INTEL XBASE8TE8F-C PC computer tower
APC BackUPS
Dual monitors
Keyboard
Trackball
KLA / TENCOR 2132-LC power line conditioner:
P/N: 750-653120
Power rating: 9kVA, 416V, 21A, 3-phase, 50/60Hz
Input: 3-phase, 50/60Hz
Output: 3-phase, 208V/120V
1996 vintage
System currently de-installed.
KLA/TENCOR 2132 ist eine voll ausgestattete, automatisierte Masken- und Waferinspektionsanlage. Es verfügt über fortschrittliche, leistungsstarke Sensoren und fortschrittliche Bildgebungstechnologie für hochpräzise und genaue Inspektionen. Das System nutzt helle Linien, helle Defekte und dunkle Defekte bildgebende Sensoren mit interessierenden Regionen, verbesserte Fehlersortierung und Klassifizierung sowie schnelle automatisierte Fehlerüberprüfung und Fehleranordnung. Das Gerät bietet eine unübertroffene Fehlererkennung und eine genaue Fehleranordnung für bis zu 60 Wafer pro Stunde. Es ist eine berührungslose, zerstörungsfreie Maschine, die die Integrität von Wafer zu Substrat während des gesamten Inspektionsprozesses gewährleistet. Mit seiner ausgeklügelten Sensortechnologie ist das Werkzeug in der Lage, eine Vielzahl von Substraten zu analysieren, darunter Silizium, Photoresist, Glas und Keramik, mit einer Größe bis zu 300 mm. Die fortschrittliche bildgebende Technologie der Anlage umfasst eine Vielzahl von bildgebenden Modi, die die Inspektion von jeder Art von Halbleiterscheibe ermöglichen. Hochauflösende Bilder der Waferoberfläche werden durch eine Vielzahl von Objektiven und optischen Presets aufgenommen und ermöglichen so einen umfassenden Überblick über den Wafer schnell und einfach. Für aufgabenspezifische Inspektionen stehen drei Arten von Bildverarbeitungsmodi zur Verfügung: hochvergrößerte Bilder, planare Bilder, 3D-Bilder. Das Modell bietet zudem verbesserte Fehlersortierungs- und Klassifizierungsmöglichkeiten. Durch die Kombination von hellen Linien, hellen Defekten und dunklen Defektbildern mit Licht aus verschiedenen Winkeln kann die Ausrüstung Defekte mit einer hohen Genauigkeit charakterisieren. Defekte werden automatisch in Echtzeit klassifiziert und nach der Schwere ihrer Natur in Gruppen sortiert. Mit dem erweiterten 3D-Fehleranalysemodul kann eine detaillierte 3D-Karte von Waferoberflächenfehlern erstellt werden. KLA 2132 ist ein unschätzbares Werkzeug zur Erkennung und Beseitigung von Defekten mit erhöhter Präzision und Genauigkeit. Mit seinen robusten Eigenschaften hilft es, den Ertrag zu steigern und den Waferabfall für eine Vielzahl von Anforderungen an die Waferinspektion zu reduzieren.
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