Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #293586850 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2132 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für maximale Erkennungsfähigkeit, großflächige Abdeckung und erhöhten Durchsatz ausgelegt ist. Das System nutzt fortschrittliche optische Detektionstechnologien (Coherent Back Scatter und UV) für die gleichzeitige Abbildung verschiedener Oberflächenschichten der Maske & Wafer. Es umfasst auch Rundheitsinstrumente, Wafertransportmodule und Mehrfachauflösungs-Messautosampler. Der Coherent Back Scatter (CBS) eignet sich für die schnelle und genaue Inspektion von Masken- und Wafermustern und wird als Verifikationswerkzeug für Inspektionszeiten bis zu 5 sec/sheet verwendet. Die UV-Einheit enthält eine UV-Lampe und eine UV-Lichtquelle, die eine hohe Empfindlichkeit für jede Art von Defekten bietet, auch unterhalb der diffraktiven Marge. Die Rundungsinstrumente umfassen vielfache 4-Achsen-Mikrofokusbeschleunigungsmesser, die die Rundheit der Oblate mit der Nanometer-Entschlossenheit mit hohen Geschwindigkeiten messen. Das Wafertransportmodul überträgt den Wafer vom Inspektionsbereich zum Autosampler. Der Autosampler wurde entwickelt, um eine genaue Inspektion von zufällig verteilten sehr kleinen Strukturen auf der Waferoberfläche zu ermöglichen, die eine Ausrichtung und Messung von Strukturen mit Größen bis zu 150 nm ermöglicht. Die KLA 2132 ist eine kostengünstige und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, die sich zur automatisierten Charakterisierung von Waferätzmustern und -fehlern eignet. Das Werkzeug ist kompatibel mit Stempelprüfung und Mehrfachmorphologieanalyse, und seine High-End-Kamera bietet Echtzeit-Bildgebung von komplexen Formen und Mustern. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Muster-Matching-Algorithmen sowie umfassenden Fehlerabdeckungsfunktionen und funktionsbasierten Testanalysen ausgestattet. Insgesamt ist TENCOR 2132 ein vielseitiges, anspruchsvolles und benutzerfreundliches Asset, das aus fortschrittlichen Technologien und spezialisierten Softwareanwendungen besteht. Seine leistungsstarken Filter- und Toleranzmessalgorithmen sind in der Lage, winzige Defekte während jedes Produktionsprozesses zu erkennen und die genaue Qualität und Funktionalität des Wafers oder der Maske zu bestätigen.