Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #293665007 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2132 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Messung von Feldfotos von fotolithographischen Masken. Es verwendet eine neuartige Kombination von Technologien, wie Laserscannen, mehrere Videokameras und Objektidentifikationsalgorithmen, um kritische Merkmale auf der Maske zu erkennen und zu messen. Das KLA 2132-System kann über die Oberfläche einer Maske scannen und sehr präzise Merkmale wie Linien und Muster sowie andere wichtige Merkmale wie Tonhöhe, Ausrichtung und Symmetrie erkennen. Das Gerät verwendet einen Laser, um die Maske zu scannen, und ist in der Lage, Linienbreiten aus einem weiten Winkelbereich genau zu erfassen und zu messen. Darüber hinaus nutzt TENCOR 2132 auch mehrere hochauflösende Videokameras, die detaillierte Bilder über die Oberfläche der Maske aufnehmen können. 2132 hat sich als zuverlässiges und präzises Werkzeug zur Inspektion von Masken und Wafern erwiesen. Es verfügt über eine leistungsstarke Bildverarbeitungsmaschine, die die Erkennung der kleinsten Merkmale ermöglicht und die richtige Ausrichtung jedes Merkmals auf der Oberfläche der Maske ermöglicht. Darüber hinaus verwendet KLA/TENCOR 2132 fortgeschrittene Objekt-Identifikationsalgorithmen, die in der Lage sind, Muster und Defekte auf der Oberfläche der Maske schnell und genau zu erkennen. Darüber hinaus ist die KLA 2132 in der Lage, mehrere Durchläufe von Inspektionsdaten zu analysieren und es dem Benutzer zu ermöglichen, alle während des Inspektionsprozesses aufgetretenen Probleme und Mängel schnell zu identifizieren. Das Tool enthält eine Bibliothek mit Tausenden von Standard-IC-Layoutmustern und kann alle nicht standardmäßigen KEs im Muster erkennen. Darüber hinaus ist TENCOR 2132 auch in der Lage, die Ausrichtung jedes Merkmals auf der Maske zur genauen Positionierung automatisch zu analysieren. Kurz gesagt, 2132 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektion, die fortschrittliches Laserscannen, Videokameras und Objektidentifikationsalgorithmen verwendet, um Funktionen auf der Maske für eine Vielzahl von Anwendungen genau zu erkennen und zu messen. Seine leistungsfähigen Bildgebungs- und Analysefähigkeiten machen es zu einem zuverlässigen Werkzeug, um die Qualität von IC-Designs vor der Produktion zu überprüfen.