Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #293747978 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2132 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung von lithographischen Defekten in der Halbleiterherstellung. Es verwendet fortschrittliche Deep-Learning-Algorithmen, um Fehler auf dem Wafer und dem Retikel zu identifizieren, zu segmentieren und zu klassifizieren, was zu höheren Produktionserträgen und schnelleren Prozessdurchlaufzeiten führt. Das KLA 2132 System bietet eine branchenführende Bilderfassungseinheit mit zwei Sensoren, die bis zu 200 Dünnschichtschichten pro Wafer in Stereo und bis zu 256 Bit pro Pixel aufnehmen können. Darüber hinaus kann die Maschine TENCOR 2132 bis zu vier Wafer gleichzeitig inspizieren und die Inspektionszeiten weiter reduzieren. Das Tool bietet auch eine eingebettete 28nm-Knoten Defekt Klassifizierung Fähigkeit, mit der Fähigkeit, mehr als 30 Arten von Fehlern an der Maske und Wafer zu erkennen und zu klassifizieren, einschließlich geometrischer Muster Unebenheiten. Dazu gehören Funktionen wie vertikale, horizontale und gekippte Linienwellung und Verschmutzung sowie Kurvenunterschiede, Linienstopp und Hinterschnitt. Mit dieser Erkennungsfähigkeit kann 2132 Asset sowohl feste als auch zufällige Fehler identifizieren. Neben der hochpräzisen Bildgebung und Fehlerklassifizierung bietet das Modell KLA/TENCOR 2132 zahlreiche Funktionen zur Prozesssteuerung und -überwachung. Es bietet automatisierte Waferausrichtung und Testzeitoptimierung, was den Zeitaufwand für die Waferinspektion reduziert. Das Gerät verfügt zudem über bildbasierte langsame und schnelle Scanfunktionen, die die Inspektionszeiten verkürzen und eine schnelle Rückkopplungskontrolle des Prozesses ermöglichen. Darüber hinaus bietet KLA 2132 eine umfassende Palette von Messmöglichkeiten sowohl für die Maske als auch für den Wafer, die eine genaue Bestimmung der Prozessparameter ermöglicht. Schließlich bietet TENCOR 2132 eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche, die die volle Kontrolle über den Inspektionsprozess ermöglicht. Das 2132 Masken- und Wafer-Inspektionssystem bietet mit seinen umfassenden Funktionen und Fähigkeiten eine leistungsstarke und präzise Lösung für die Halbleiterindustrie, die effizientere und zuverlässigere Fertigungsprozesse ermöglicht.