Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #293798142 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2132 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine vollautomatische Inspektionslösung, die in der Halbleiterherstellung eingesetzt wird. Es verwendet ein hochauflösendes digitales Bildgebungssystem, um Fehler, definiert als Variation in der Topographie oder Reflektivität, in Photomasken und Wafern zu erkennen. Eine Luftlagerstufe transportiert die Probe über die fortgeschrittenen optischen Hellfeld- und Dunkelfeldsysteme, die einen klaren Kontrast zur Oberflächentopologie und zum Kantenkontrast bieten, um die Klassifizierung fortschrittlicher Fehler zu erleichtern. Die KLA 2132 bietet die Möglichkeit, Photomasken bis zu 12 Zoll sowie Halbleiterscheiben von 200 Millimetern bis 450 Millimetern aufzunehmen. Es stehen verschiedene Bühnenkonfigurationen zur Verfügung und die Inspektionseinheit kann sowohl für die Kleinserienfertigung als auch für die Großserienfertigung konfiguriert werden. In Kombination mit einer ausgeklügelten Buchhaltungsfunktion, die von Scanwinkeln über die Anzahl der Belichtungen und Schichten reicht, bietet TENCOR 2132 detaillierte Datenanalysen, Fehlertrendenanalysen und andere Berichtsfähigkeiten. Die einfach zu bedienende Benutzeroberfläche auf dem Bildschirm, die eine Vielzahl von analytischen Modus Auswahl ermöglicht. Die Inspektionssuite umfasst auch Waferausrichtungs- und Bildanalysesoftware, und die Suite ist vollständig kompatibel mit den neuesten Anforderungen der Branche an kompatible Inspektionen und Computerschnittstellen. 2132 Mask & Wafer Inspektionsmaschine ist das ideale Werkzeug für Substrate unterschiedlicher Größe und Dicke und nutzt erweiterte visuelle Inspektions- und Gleitanalysefunktionen in der rückverfolgbaren und zuverlässigen Umgebung einer Halbleiterherstellungsanlage. Seine Hellfeld- und Dunkelfeldsysteme ermöglichen die Unterscheidung zwischen topographischen Merkmalen und optischen Kontrastfehlern. Die integrierte Software-Suite sorgt für eine effiziente Datenanalyse, Fehlerverfolgung und Berichterstattung. Und seine Luftlagerstufe ermöglicht eine höhere Probengenauigkeit und -betrieb. Zusammen machen diese Eigenschaften KLA/TENCOR 2132 Mask & Wafer Inspection Asset zu einem hochmodernen Werkzeug für eine schnelle und effiziente Halbleiterherstellung.