Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #293815450 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2132 ist eine zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die verwendet wird, um Fehler zu finden und die Ausbeute in der Halbleiterproduktion zu verbessern. Es verwendet eine Kombination aus fortschrittlicher Optik, Bildverarbeitung und fortschrittlicher Lasermesstechnologie, um die gesamten Masken- und Waferoberflächen im Nanometermaßstab zu inspizieren. KLA 2132 basiert auf dem nichtlinearen Laserinterferometer KLA SmartScribe. Dieses System kann verwendet werden, um die Nanometer-Maßstab-Messungen sowohl defekter als auch nicht defekter Merkmale auf dem Wafer oder der Maske genau zu erfassen und zu melden. Die gesamte Oberfläche kann in einem einzigen Durchgang gescannt werden, wodurch ein klares Bild der gesamten Oberfläche erzeugt wird. TENCOR 2132 verwendet eine patentierte Technik, die Laserbeleuchtung auf Nanometerebene und dynamische Bildverarbeitung kombiniert, um ein verbessertes Signal-Rausch-Verhältnis bereitzustellen, das es ermöglicht, Fehler und andere Merkmale genau zu messen. Neben der fortschrittlichen Optik verfügt 2132 auch über ein segmentiertes Kontrastmuster zur Fehlererkennung. Diese Funktion verwendet die Pixelerkennung, um die Bereiche mit dem höchsten Kontrast zu isolieren, was eine genauere Fehlererkennung ermöglicht. Dies steht im Gegensatz zu standardmäßigeren Einzelbildmustererkennungssystemen, die eine weniger genaue Erkennung von Fehlern ermöglichen. Das Gerät ist auch mit fortschrittlichen High-Speed-Algorithmen für Nähen und Autofokus ausgestattet. Dies sorgt für einen schnelleren Autofokus, der den gesamten Inspektionsprozess beschleunigt und die Optik beim Scannen größerer Masken nicht neu fokussiert. KLA/TENCOR 2132 bietet eine Vielzahl von Funktionen, mit denen es an die Produktionsumgebung angepasst werden kann. Die benutzereinstellbare Optik kann für verschiedene Masken- und Substratformen optimiert werden, während die Software der Maschine mit einer Reihe von Überwachungssystemen von Drittanbietern kompatibel ist. Insgesamt ist KLA 2132 ein einfach zu bedienendes, zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das den Ertrag maximiert und die Produktionskosten senkt. Seine fortschrittliche Optik, Bildverarbeitung und dynamische Lasermesskombination minimiert die Notwendigkeit der Refokussierung und bietet höchste Genauigkeit für Nanometermessungen. Sein segmentiertes Kontrastmuster für die Defektentdeckung und Hochleistungsautofokusalgorithmen erhöht weiter seine Nützlichkeit, es einen wertvollen Vermögenswert für Halbleiterfertigungsbedürfnisse machend.