Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #9101228 zu verkaufen

KLA / TENCOR 2132
ID: 9101228
Weinlese: 1995
Wafer inspection system Array Mode: 0.62μm: 5 sec/cm2 0.39μm: 15 sec/cm2 0.25μm: 30 sec/cm2 Random Mode: 0.50μm: 1.5 sec/cm2 0.30μm 5 sec/cm2 0.20μm 15 sec/cm2 Minimum inspection feature size @ 0.25μm with DIE to DIE mode ±0.5℃ Defect Capture Rate: >90% on KLA Standard Wafer with >0.1% false rate in Random Mode ±0.2℃ 1995 vintage.
KLA/TENCOR 2132 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine umfassende Lösung für die Halbleiterproduktion bietet. Das System bietet eine genaue und zuverlässige Fehlererkennung und -analyse. Das Gerät verfügt über eine Vielzahl von High-End-Automatisierungs- und Analysefunktionen. Es verwendet Brightfield, Darkfield, RED-Enhancement Tri-Level-Imaging, um Fehler genau zu scannen und zu erkennen, und verfügt über fortschrittliche Algorithmen und statistische Methoden, um Fehlertrends genau und genau zu analysieren. Die Maschine kann Stempel-zu-Stempel, Stempel-zu-Maske und Chip-zu-Chip-Stufen von Defekten analysieren und komplexe CD- und Overlay-Eigenschaften messen. Neben der Fehlerinspektion und -analyse kann das Werkzeug auch für eine erweiterte Messtechnik konfiguriert werden. Es bietet eine Reihe von Parametern für die Bewertung und Überwachung wie kritische Abmessungen (CDs), Linienbreiten und Foliendicken. Dies bietet einen umfassenderen Weg, um sicherzustellen, dass ein bestimmter Produktionsablauf den erforderlichen Spezifikationen entspricht. Die Anlage ist sehr zuverlässig und stabil, und die Langlebigkeit wurde in ihrem Design entwickelt. Das Modell verfügt über ein Wafer-Ausrichtungsgerüst für die Strahlabtastung. Es enthält auch vielseitige, on-the-fly Wafer Geometrie Identifikationsmöglichkeiten, erweiterte Fokus Ausrüstung, und eine motorisierte, hochpräzise Stufe. Das System bietet eine benutzerfreundliche Benutzeroberfläche für niedrige Lernkurve und unübertroffene Wiederholbarkeit und Genauigkeit. Es kann auch leicht bis spezialisierte Fehlererkennung Rezepte für ein extrem hohes Maß an Anpassung an spezifische Anwendungsanforderungen. Die Masken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten des Geräts erfüllen die höchsten Anforderungen an die Qualitätssicherung in der Halbleiterherstellung. Es wurde entwickelt, um signifikante Verbesserungen bei Durchsatz, Ertrag und Zuverlässigkeit zu erzielen.
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