Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #9161994 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2132 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für hohe Empfindlichkeit und Genauigkeit. Das System verwendet die patentierte Fourier Transform Interferometry (FTI) -Technologie zur Fehlererkennung und -klassifizierung und umfasst eine integrierte Fehlerüberprüfung, Fehlerisolierung und Mustererkennung. Das Gerät verfügt über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche sowie erweiterte Bildgebungs- und Analysefunktionen. Die Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine besteht aus drei Hauptkomponenten: Scanner, Bildverarbeitungswerkzeug und Bildverarbeitungssysteme. Der Scanner ist ein FTI-basiertes hochauflösendes Bildmaterial, das sowohl Top-Down-Bilder als auch Querschnittsbilder von Wafern aufnehmen kann. Dadurch wird sichergestellt, dass die Fehler genau erkannt, identifiziert und behoben werden. Das bildgebende Modell beinhaltet eine fortschrittliche optische Mikroskopie-Technik, die das feine Detail der Oberfläche des Wafers hervorbringen kann. Das Gerät enthält auch ein Simulationsmodul, mit dem Benutzer eine planare Oberfläche genau abbilden und die Auswirkungen von Defekten vorhersagen können. Die Bildverarbeitungssysteme sind darauf ausgelegt, Fehler nach Kategorie und Größe zu erkennen und zu klassifizieren. Es trennt sie auch in verschiedene Defektklassen. Es klassifiziert die Formen, Größen und Intensitäten der Fehler und kann auch häufig gesehene Merkmale wie Punkte, Linien, Kurven, Hohlräume und Inseln erkennen und unterscheiden. Das System kann leicht Anomalien innerhalb des Wafers erkennen und hilft festzustellen, welche weitere Inspektion oder Reparatur benötigen. Die Auflösung des Defektpanels beträgt 0,5 µm und kann auf Pixelebene erkannt werden. Die Einheit hat auch die Möglichkeit, Fehler basierend auf Größe, Form, Topologie, Orientierung und relativer Bewegung zu klassifizieren. Die Gate-Map-Funktion ermöglicht es Benutzern, Schwellenwerte anzuzeigen, zu filtern und kritische Fehler an ihrem Beispielort zu identifizieren. Die Maschine verfügt zudem über eine automatisierte Fehlerüberprüfungsfunktion. Dies ermöglicht einen automatisierten Vergleich zwischen erwarteten und tatsächlichen Ergebnissen, so dass eventuelle Abweichungen schnell erkannt werden können. Ein Mikroebene-Fehlerisolierungstool ist ebenfalls enthalten, das hilft, potenzielle Fehlstellen oder Falsch-Positive zu reduzieren. Schließlich bietet das Gerät eine leistungsstarke Mustererkennung. Dies bietet Anwendern eine umfassende Sicht auf die Wafer sowie die Möglichkeit, mehrere Fehlermuster gleichzeitig zu erkennen und zu klassifizieren. Zum Beispiel kann es zwischen verschiedenen Arten von Musterdefekten wie Shorts und Öffnungen unterscheiden. Das Masken- und Waferinspektionsmodell KLA 2132 wurde entwickelt, um den Anwendern eine leistungsstarke Ausrüstung zur Inspektion, Analyse und Reparatur von Masken- und Waferdefekten zur Verfügung zu stellen. Seine erweiterte Bildgebungs- und Bildverarbeitungsfähigkeit ermöglicht eine hochempfindliche und genaue Methode der Fehlererkennung und -klassifizierung. Die automatisierten Fehlerüberprüfungs- und Mustererkennungssysteme helfen bei der Reduzierung potenzieller Fehl- und Fehlprüfungen und machen dieses System ideal für die Sicherstellung höchster Produktqualität.