Gebraucht KLA / TENCOR 2132 #9373021 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2132 Performance Analyzer ist ein Wafer- und Maskeninspektionsgerät zur Erkennung von Partikeln, Defekten und Prozessvariationen in integrierten Schaltkreisen (IC) Wafern und Masken. Dieses System ist ideal für Inline-Inspektions-, Sortier- und Analyseanforderungen, die eine hohe Ausbeute und Qualitätssicherung für mikroelektronische Geräte gewährleisten. UCK 2132 nutzt fortschrittliche Technologien wie optische Mikroskopie, Streuung, spektrale Bildgebung, 3D-Bildgebung und Elektronenstrahlmikroskopie. Diese Werkzeuge bieten genaue Messungen von Partikeln und Defekten sowie genaue Platzierung, Overlay und Profilmessungen von Merkmalen auf Masken und Wafern. Darüber hinaus ermöglicht die Maschine eine automatisierte Fehlerklassifizierung basierend auf Form und Größe. Das Inspektionswerkzeug TENCOR 2132 ist in einem robusten und zuverlässigen Gehäuse mit Schwingungsisolierung und Temperaturregelung untergebracht. Die Inspektionsanlage verfügt über eine wiederholbare Messgenauigkeit (0,20 µm 3 σ), einen hohen Durchsatz (bis zu 40.000 Wafer pro Stunde) und Datenraten von bis zu 500 Bildern pro Sekunde. Das Modell ist einfach zu bedienen auf Bedienerebene mit einer Reihe von benutzerfreundlichen Optionen wie automatisierte Funktionskalibrierung, automatische Wafer-Handhabung und eine intuitive Benutzeroberfläche. Dies hilft, arbeitsintensive Anstrengungen zu vermeiden und sorgt für effiziente und zuverlässige Ergebnisse. Darüber hinaus verfügt 2132 Geräte über eine Reihe von eingebauten Sicherheitsmerkmalen wie ein integriertes Partikelabstoßungssystem, das die Vermeidung einer schlechten Waferakzeptanz ermöglicht. Das Gerät verfügt auch über eine Energiebehälter-Entsorgungsmaschine, die eine sichere und effiziente Möglichkeit bietet, Kontaminationen zu entsorgen. KLA/TENCOR 2132 Perfomrance Analyzer ist ein fortschrittliches und zuverlässiges Werkzeug, das eine überlegene Partikel- und Fehlererkennung und Wafer/Masken-Messgenauigkeit bietet. Diese Ressource kann dazu beitragen, Qualitätskontrolle, Prozessoptimierung und Ertragsoptimierung für IC-Wafer und -Masken sicherzustellen.