Gebraucht KLA / TENCOR 2133 #9150400 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2133 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein umfassendes, hochgenaues, automatisiertes Inspektionssystem zur Erkennung und Identifizierung von Fehlern an Fotomasken und Halbleiterscheiben. Das Gerät arbeitet mit einem fortschrittlichen automatisierten Mikroskop, um den Bereich nach mikroskopischen Partikeln, Verunreinigungen, Unregelmäßigkeiten oder Defekten zu scannen. Es vergleicht dann die vom Mikroskop erzeugten Bilder mit festgelegten Standards und bestimmt, ob das Muster akzeptabel ist oder fixiert werden muss. KLA 2133 Mask & Wafer Inspection Machine verfügt über einen fortschrittlichen optischen Weg, der die höchste Fehlererkennung und -genauigkeit gewährleistet. Das Tool enthält einen fortschrittlichen automatischen Fokusmechanismus für die automatische und manuelle Bildoptimierung, fortschrittliche Beleuchtungstechniken für verbesserten Kontrast und Klarheit von Mustern und eine Reihe einzigartiger Fehlererkennungsalgorithmen, die eine außergewöhnlich präzise Fehlererkennung ermöglichen. Ebenfalls im Asset enthalten ist eine Reihe vielseitiger Inspektions-, Verifikations- und Analysefunktionen, die eine schnelle und einfache Fehlerüberwachung und Leistungsanalyse ermöglichen. TENCOR 2133 Mask & Wafer Inspection Model ist für den Einsatz mit komplexen Fehlerstrukturen, wie sie in Logik- und Speicherprodukten vorkommen, optimiert. Die Ausrüstung kann kritische Fehler von 0,5 bis 5 Mikrometer in der Größe genau erkennen und kann auch Submikron-Strukturen erkennen. Zusätzlich bietet das System ein integriertes Fehleranalysepaket, das eine detaillierte Untersuchung und Fehlerdiagnose ermöglicht. Das Gerät bietet auch die volle Rückverfolgbarkeit von Fehlerergebnissen, was eine verbesserte Fehlersichtbarkeit und Prozesskontrolle ermöglicht. 2133 Mask & Wafer Inspection Machine bietet auch eine Vielzahl von Funktionen wie automatisierte Bilderzeugung, Fehlerdatenprotokollierung, benutzerfreundliche Software, intuitive Berichte und benutzerprogrammierbare Funktionen. Darüber hinaus bietet das Tool eine integrierte Kalibrierung und erweiterte 3D-Funktionen für eine verbesserte Fehlerüberwachung. Insgesamt ist KLA/TENCOR 2133 Mask & Wafer Inspection Model eine robuste, hochgenaue, automatisierte Inspektionsausrüstung zur Erkennung und Identifizierung von Fehlern in Fotomasken und Halbleiterscheiben. Mit Funktionen wie fortschrittlicher Optik, Fehlererkennungsalgorithmen und ausgeklügelten Analysefunktionen bietet das System eine ideale Lösung, um die Qualität und Zuverlässigkeit elektronischer Produkte sicherzustellen.