Gebraucht KLA / TENCOR 2133 #9395745 zu verkaufen

Die Masken- und Wafer-Inspektionslösung KLA/TENCOR 2133 ist ein fortschrittliches Werkzeug, das in der Lage ist, hochauflösende Bilder und Messdaten zur Inspektion komplexer Muster für Halbleiterscheiben zu erzeugen. Dieses Gerät bietet eine erhöhte Empfindlichkeit für extrem kleine Defekte und bietet Mehrwellenlängenbilder für scharfe, klare Bilder. Darüber hinaus bieten die hochmodernen Vision-Algorithmen schnelle Inspektionszeiten und eine hervorragende Flaggiergenauigkeit. KLA 2133 Maske und Wafer Inspektionssystem bietet eine Reihe von Funktionen. Erstens ist die Einheit für unterschiedliche Substratdicken ausgelegt, einschließlich derjenigen unter 5 μ m, sowie eine Reihe von Liniensteigungen. Es bietet auch höchste Gleichmäßigkeit der Probenbeleuchtung bei 100 mg/cm2 Auflösung auf der Wafer-Skala, und 10 μ m bei einer einzigen Matrize. Mit einem ultraschnellen Objektiv mit symmetrischen Fehlerkorrekturen kann die Maschine eine schnelle, genaue und wiederholbare Inspektion durchführen. Darüber hinaus haben Kunden mit einer Reihe von optischen Optionen, einschließlich mehrerer Wellenlängen und polarisierter Beleuchtung, zusammen mit einem eingebetteten Streuungswerkzeug mehr Wahlfreiheit bei der Gestaltung ihres Produkts. TENCOR 2133 Maske und Wafer Inspektion Asset kommt mit einer benutzerfreundlichen Software-Schnittstelle, die Rüstzeit beschleunigt und erleichtert die Konstruktion von komplexen Mustern. Mit der Defect LiberationTM Technologie können Anwender automatisch zwischen bis zu 160 Mustern unterscheiden und so den Ertrag verbessern. Das Modell wird durch das Data ExplorerTM Prüfauswertungsformat weiter ausgebaut, das es Anwendern ermöglicht, ihre Prüfergebnisse schnell zu erkunden. Darüber hinaus umfasst die Software Berichtsfunktionen, die es Ingenieuren ermöglichen, Einblicke in Quelle, Typ und Position von Fehlern an den Mustern zu erhalten, was eine bessere Kontrolle und RIB-Analyse ermöglicht. 2133 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ideal für IC-, MEM- und LED-Hersteller geeignet. Das System ist vollständig kompatibel mit der modularen Evaluierungsplattform (MEP), so dass Kunden einfach mehrere Messsysteme integrieren können, um eine umfassende Charakterisierungslösung bereitzustellen. Eine innovative Markierungs- und Fusionstechnik erhöht den Durchsatz, während eine neue Farbschichtautomatisierungs- und Markierungseinheit die Gesamtgenauigkeit erhöht. Durch die Kombination von schnellem automatisiertem Matching und präziser Matching-Technologie können Kunden die Inspektionszeit reduzieren und falsche Ausfallraten. Abschließend ist KLA/TENCOR 2133 Masken- und Wafer-Inspektionslösung eine fortschrittliche Maschine, die entwickelt wurde, um hochzuverlässige und genaue Inspektionsergebnisse zu produzieren. Das Tool bietet benutzerfreundliche Schnittstellen, mit denen Ingenieure ihre Operationen effektiv verwalten können. Mit einer Reihe von Funktionen und optischen Optionen ist das Asset ideal für IC-, MEM- und LED-Hersteller, die ihre Masken- und Wafer-Inspektionsfunktionen verbessern möchten.