Gebraucht KLA / TENCOR 2135 #9249042 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2135 Maske und Wafer Inspection Equipment ist eine fortschrittliche messtechnische Lösung, die sich den metrologischen Anforderungen der modernen Halbleiterherstellung widmet. Seine proprietäre Technologie ermöglicht es ihm, die kritischen Muster, die in lithographischen Masken oder Wafern enthalten sind, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden, schnell und genau zu messen. Die KLA 2135 ist in der Lage, extrem kleine Fehler und Merkmalsvariationen auf einer Geräteskala mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erkennen. Das System TENCOR 2135 ist auf einer modularen Plattform aufgebaut, die bei Bedarf für verschiedene Anwendungen konfiguriert werden kann. Auf diese Weise können Anwender das Werkzeug bei Bedarf problemlos für verschiedene lithographische Anwendungen anpassen. Diese Anwendungen können von der Werkzeug-zu-Werkzeug-Fehlerprüfung über die Kennlinienqualifikation bis zur Taktjitteranalyse reichen. Um eine hohe Genauigkeit der Messung und Analyse zu ermöglichen, enthält das Tool proprietäre Hardware und Software. Eine einzigartige Kombination aus hochauflösender Optik, konfokalem Laserscannen, Interferenzoptik und fortschrittlichen Detektoren messen und analysieren Funktionen mit Mikron-Auflösung. Darüber hinaus werden die Fehlererkennungsalgorithmen der Inspektionseinheit genau kalibriert, um selbst kleinste Variationen in den Abmessungen und der Form eines Merkmals zu erkennen. Ebenso wichtig ist die Fähigkeit der 2135-Maschine, große Datenmengen schnell und effizient zu verarbeiten und zu analysieren. Das Tool kann Hunderte von Gigabyte Daten in einer Stunde verarbeiten, dank seiner integrierten Bildarchivierungs- und Abruffunktionen. Darüber hinaus kann KLA/TENCOR 2135 Asset Geräteeigenschaften automatisch erkennen, klassifizieren und messen, ohne dass ein menschliches Eingreifen erforderlich ist. Dadurch wird sichergestellt, dass das Werkzeug konstant qualitativ hochwertige Ergebnisse liefern kann, ohne dass mühsame manuelle Inspektionsprozesse erforderlich sind. Insgesamt ist das Masken- und Wafer-Inspektionsmodell KLA 2135 eine robuste und zuverlässige Lösung für die messtechnischen Anforderungen der modernen Halbleiterfertigung. Die Kombination aus fortschrittlichen Hardware-, Software- und Analyseprozessen ermöglicht es, Fehler an lithographischen Masken und Wafern zuverlässig zu identifizieren, was eine bessere Qualitätskontrolle und höhere Produktionserträge ermöglicht. Mit seiner Fähigkeit, menschliche Arbeit während der Inspektionsprozesse zu reduzieren, ist das Werkzeug eine ideale Wahl für jede moderne lithographische Anwendung.