Gebraucht KLA / TENCOR 2135 #9383823 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9383823
Wafergröße: 2" -8"
Weinlese: 1997
Wafer inspection system, 2" -8"
Updated from 2115
Cassette to cassette
CE Marked
No missing parts
Manuals
Power requirements: 208 V, 10.0 A - 30.0 A (2), 3 Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
KLA/TENCOR 2135 ist ein vielseitiges, automatisiertes System zur Inspektion von Mustermasken und Halbleiterscheiben. Die Einheit enthält sowohl ein Hellfeld und Dunkelfeld schräge Licht Inspektionsmethoden einschließlich Hellfeld hell-dunkel Differential Inspektion, Dunkelfeld hell-dunkel Differential und Dunkelfeld kritische Dimension. Die Maschine besteht aus zwei voneinander abhängigen Komponenten: dem Differential Mode Observatory und der Wafer/Mask Defect Review Station. Das Differential Mode Observatory (DMO) kombiniert ein Hellfeld/Dunkelfeld-Bildgebungswerkzeug und eine Wafer/Maske-Bühne, um mehrere lineare und schräge Laserbeleuchtungswinkel zu unterstützen. Es ist mit einer hochauflösenden Kamera und einem bildgebenden Gerät ausgestattet, das endliche Fehler erkennen und quantifizieren kann. Die Wafer/Mask Defect Review Station verfügt über eine motorisierte xy-Stufe, die sowohl den Wafer als auch die Maske auf Defekte scannen kann. Die Station enthält mehrere Lichtquellen, die die Wafer/Maske in verschiedenen Einfallswinkeln beleuchten, einschließlich Hellfeld und Dunkelfeldbeleuchtung. Dies ermöglicht eine hochauflösende, große Sichtfeld-Fehlerinspektion auf kleinen und großen Geräten, wobei die kleinsten Merkmalsgrößen, die detektierbar sind, so klein wie 5 nm sind. Die UCK 2135 wurde entwickelt, um verschiedene Arten von Wafer-/Maskenfehlern und Fehlern zu untersuchen, einschließlich elektrischer Kurzschlüsse, Öffnungen der Lithographie, Photoresist-Defekte, Filmrisse und Musterfehlstellungen. Es ist auch in der Lage, 248mm bis 500mm Wafer und 4-Zoll bis 8-Zoll-Masken zu überprüfen. TENCOR 2135 verfügt über webbasierte Analyse- und Reporting-Tools, mit denen Bediener Echtzeitansichten in die Inspektionsprozesse des Modells gewinnen können. Dadurch entfällt die manuelle Protokollierung und eine schnelle und einfache Analyse der erzeugten Daten. Insgesamt sind 2135 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte ein unschätzbares und vielseitiges System zur automatisierten Fehlererkennung und Fehleranalyse. Es ist ein wesentliches Werkzeug für die moderne Produktion und kann helfen, Ertrag und Produktqualität zu verbessern.
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