Gebraucht KLA / TENCOR 2138 #191420 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2138 Maske und Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes Hochgeschwindigkeits-Präzisionswerkzeug zur Inspektion von High-End-Halbleiterstrukturen und elektronischen Geräten auf Defekte und Schäden, die möglicherweise zu Produktausfällen führen könnten. Das Inspektionssystem verwendet verschiedene Arten von leistungsstarken bildgebenden Technologien wie Ultraviolett (UV), Ultraviolett-sichtbare (UV-Vis), Nahinfrarot (NIR) und Infrarot (IR) bildgebende Techniken, um eine Vielzahl von Defekten und Schäden zu erkennen, einschließlich Par Das Gerät wurde entwickelt, um sowohl Masken- als auch Wafersubstrate mit einer Vielzahl von Optionen für Kunden zu inspizieren, um spezifische Anwendungen und Techniken anzusprechen. Es verfügt über eine an die Anwendung des Benutzers anpassbare Lichtquelle, ein Bordfilterrad zur Steuerung der Abbildungswellenlänge sowie ein Kameramodul und eine optische Baugruppe zur Erfassung und Analyse von Bildern. Die KLA 2138 wurde entwickelt, um Inspektionsgeschwindigkeiten anzubieten, die die industriellen Anforderungen erfüllen oder übertreffen und gut für mittelvolumige Inspektionsanforderungen geeignet sind. Seine verbesserten bildgebenden Technologien ermöglichen die Erkennung von Fehlern wie fehlenden Elementen, unebenen Oberflächen und ungeklärten Flächenvariationen, die allein durch bloße Augenprüfung nicht erkannt werden können. Die Maschine bietet Anwendern auch eine Reihe von Mikrometer-Genauigkeit, geringe Hintergrundgeräusche und schnelle Inspektionsgeschwindigkeiten, so dass es ideal für den Einsatz in Bereichen wie Mikroelektronik, Photovoltaik und Optik. Sein ergonomisches Design macht es einfach zu bedienen und seine integrierte Software ermöglicht es Benutzern, den Betrieb des Tools zu steuern, Daten zu speichern und zu analysieren und benutzerdefinierte Inspektionsvorlagen zu erstellen. TENCOR 2138 verfügt zudem über eine optionale Bildbearbeitungsschnittstelle für Bildschnitte, die eine detaillierte Inspektion von Photomasken oder Wafern ermöglicht. Es kann zur Erkennung und Messung von Defekten, zur Gewinnung dynamischer oder statischer Bilder, zur Analyse von Substraten auf Ebenheit und zur Bereitstellung quantitativer Daten zur Charakterisierung, Prozesssteuerung und Fehleraufnahme von Produktionsprozessen verwendet werden. Die Schnittstellenfunktionen des Asset umfassen digitale Kamerasteuerung, digitale Signalausgänge sowie USB-Ports zur Kopplung mit externen Geräten. Es kann entweder in einer aufrechten oder invertierten Konfiguration installiert werden, was es zu einem sehr vielseitigen Werkzeug für eine Vielzahl von Inspektionsanwendungen macht. 2138 Masken- und Wafer-Inspektionsmodell ist ein leistungsfähiges, zuverlässiges und flexibles Werkzeug, das auf die spezifischen Anforderungen und Anwendungen der Kunden in der Halbleiterherstellung und -inspektionsindustrie zugeschnitten ist. Mit fortschrittlichen Bildgebungstechnologien, ergonomischem Design und anpassbaren Funktionen ist es eine ideale Lösung für die Inspektion und Analyse von Masken und Wafern.