Gebraucht KLA / TENCOR 2138 #9115814 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2138 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine umfassende, vollautomatisierte Lösung, die eine Hochgeschwindigkeitsprüfung von Prozessmustern auf Wafern und anderen Halbleiterbauelementen während der Produktion ermöglicht. Dieses System wurde speziell entwickelt, um Halbleiterherstellern zu helfen, Fehler zu reduzieren und die Produktivität durch Optimierung ihrer gesamten Prozesssteuerung zu verbessern. Dieses Gerät kann helfen, Fehler auf Masken- und Waferoberflächen mit beispielloser Erkennungsgenauigkeit zu erkennen. Es verwendet fortgeschrittene Bildverarbeitung, um feine Merkmale mit minimalem Einfluss von Rauschen und ungleichmäßiger Beleuchtung zu identifizieren. Zusätzlich kann es Kantenlithographiefehler wie fehlende Kontaktlöcher erkennen, was die Ausbeute des Prozesses erhöht. Mit einer schnellen Erfassungsgeschwindigkeit erfasst es Bilder mehrerer Proben auf einmal mit Hochdurchsatzkameras, was eine schnellere Handhabung von Wafern ermöglicht. Diese Maschine verfügt zudem über eine ergonomische und effiziente Bedienoberfläche, die das Workflow-Management vereinfacht. Das KLA 2138 Tool bietet eine Vielzahl von Funktionen für verbessertes Wafer- und Maskenmanagement. Es dient als Arbeitsstation mit mehreren Standorten, auf der sich Benutzer an entfernten Standorten anmelden, Teile auswählen und Bilder analysieren können. Es schließt eine Industriestandardtransistorniveaumetrologieeigenschaft ein, um Oblatendimensionen, Entfernung zwischen kritischen Eigenschaften des Prozesses und andere relevante Parameter zu messen. Es kann auch die ungespannte Oberflächenrauhigkeit messen. Der automatische Fehlerinspektionsmodus des Asset ist für die Untersuchung von Wafern in Echtzeit mit bis zu 3 Vergrößerungsstufen ausgelegt. Es kann Chips und Defekte am Rand von Wafern mit fortschrittlichen Algorithmen identifizieren. Um eine hohe Genauigkeit zu gewährleisten, bietet das Modell verschiedene Sichtsysteme, die optimierte Musterprüfungen und gleichzeitige Fehlerortungsmessungen ermöglichen. TENCOR 2138 Mask & Wafer Inspection Equipment bietet auch Dokumentations- und Aufzeichnungsfunktionen. Jede Messsitzung wird in ihrer Datenbank gespeichert und jeder Schritt wird zusammen mit allen Parametern protokolliert. Die generierten Berichte enthalten detaillierte Informationen zu jedem geprüften Wafer oder Maske. Dies hilft, zuverlässige Statistiken über Fehlerverteilungen auf verschiedenen Musterebenen bereitzustellen. Insgesamt ist 2138 Mask & Wafer Inspection System mit seinen automatisierten Fehlererkennungs- und Meldefunktionen die perfekte Lösung, um Halbleiterherstellern zu helfen, Prozesszeiten zu reduzieren und Fehlererträge zu verbessern. Mit seinen vielfältigen Eigenschaften und Fähigkeiten kann es effektiv und effizient höchste Qualität für eine Vielzahl von Produktions- und Prozessanforderungen gewährleisten.