Gebraucht KLA / TENCOR 2139 #9190703 zu verkaufen

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ID: 9190703
Brightfield inspection system Loading configuration: Integrated SMIF Operating system: Windows NT Chuck Cables Fan modules GEM/ SECS Interface 3.5" Floppy drive 10Base-T and BNC (10Base-2) Pixel sizes (Random / Array): 0.160, 0.250, 0.391, 0.625, and 1.250 Power: 208-480V 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2139 ist eine anspruchsvolle automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für fortgeschrittene Halbleiter-Produktionslinien. Es ist mit einem Hellfeld-Bildgebungssystem, motorisierten XYZ-Stufen und einer Vision-Einheit mit ultrahoher optischer Auflösung für eine schnelle Inspektion zu einem Bruchteil der Kosten im Vergleich zu herkömmlichen Methoden ausgestattet. Die UCK 2139 nutzt Helligkeitsfeldbeleuchtung und motorisierte XYZ-Stufen, um eine hochauflösende Abbildung von Masken und Wafern zu erreichen. Durch die Verwendung mehrerer optischer Abbildungsansichten ist die Maschine in der Lage, Flexibilität bei der Inspektion der Oberflächenmerkmale des Wafers oder der Maske zu bieten, wie Nähen, Kontaktlinien und andere Mikromerkmale. Das Vision-Tool von TENCOR 2139 umfasst einen Hochleistungsprozessor mit einer verbesserten Auflösung bis 200 nm, mit dem Bediener auch kleinste Defekte in den Masken und Wafern problemlos erkennen können. Die CCD-Kameras und mikroskopische Laser können sowohl in der Intensität als auch in der Auflösung variieren, um eine genaue Analyse zu gewährleisten, während die motorisierten XYZ-Stufen eine schnelle Neupositionierung und Inspektion verschiedener Bereiche ermöglichen. Darüber hinaus ist 2139 mit fortschrittlicher Fehlererkennungs- und Klassifizierungssoftware ausgestattet, die verschiedene Defekte, einschließlich Gruben, Perlen und schwarzen Flecken, genau erkennen kann. Diese Funktionen ermöglichen es dem Asset, kontaminierte Wafer schnell und effizient zu identifizieren und zu klassifizieren. Darüber hinaus bietet KLA/TENCOR 2139 erweiterte Fehlerüberprüfungs- und Bearbeitungswerkzeuge auf Waferebene für die schnelle und einfache Handhabung von Fehlern und Fehlern. Die Ergebnisse der Inspektion können zur weiteren Analyse organisiert und gefiltert werden. Dieses Modell enthält auch eine Bibliothek von häufig verwendeten Bildverarbeitungsalgorithmen, einschließlich automatisches Nähen, Kontrastverbesserung und Mustererkennung, um seine Genauigkeit weiter zu verbessern. Die KLA 2139 ist eine ideale Ausrüstung für Wafershows und Ertragsoptimierungen, die eine schnelle und genaue Inspektion ermöglicht. Mit seiner erweiterten Funktionalität ist das System die ideale Lösung für eine präzise und zuverlässige Inspektion verschiedener Arten von Masken- und Wafer-Designs.
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