Gebraucht KLA / TENCOR 2139 #9227709 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2139 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung der nächsten Generation, die entwickelt wurde, um die Anforderungen der Hochgeschwindigkeits-, Hochgenauigkeits- und Hochleistungsanforderungen der modernsten Halbleiterprozessgeometrien von heute zu erfüllen. Die KLA 2139 verfügt über vierdimensionale Bildstationen, um scharfe 3D-Bilder mit extremer Genauigkeit und Auflösung sowie eine fortschrittliche Mustererkennungssoftware zur punktgenauen Erkennung potenzieller Fehler zu erzeugen. Es ist in der Lage, simultane Inspektionen von bis zu vier separaten Inspektionsbereichen in einem Bild durchzuführen und verfügt über eine erweiterte Benutzeroberfläche, die die Datenanalyse und -interpretation effizient und präzise macht. Das System verwendet punktgenaue Sub-Pixel-Datenerfassung, um mikroskopische Details einzelner Defekte und Trümmer mithilfe einer optimierten Python-basierten Bildverarbeitungspipeline zu erfassen. Die bildgebenden Komponenten von TENCOR 2139 umfassen sowohl ein Hellfeld- als auch ein Dunkelfelddetektor-Array sowie eine optimierte optische Einheit für schnelle Datenerfassung und Bildgebung. Es enthält auch eine thermo-elektrische gekühlte EMCCD, um sicherzustellen, dass das thermische Rauschen minimiert wird und die Helligkeit für eine qualitativ hochwertige Bildgebung maximiert wird. Neben der Bereitstellung hochwertiger 3D-Bildgebung ist die Maschine auch so konzipiert, dass sie schnell, zuverlässig und einfach zu bedienen ist. Es verfügt über eine hochpräzise Stufe, die es dem Werkzeug ermöglicht, mehrere Inspektionen schnell und genau durchzuführen. Es ist auch mit einer multidirektionalen Öffnung ausgestattet, um die Inspektion von ultrakleinen Partikeln zu ermöglichen, und kann mit einer automatisierten Fehlerprüfstation integriert werden, um seine Verarbeitungsfunktionen weiter zu verbessern. Neben seinen bildgebenden Fähigkeiten ist 2139 auch für eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben konzipiert. Sein proprietärer omnidirektionaler Matching-Algorithmus ermöglicht es ihm, Muster von Merkmalen schnell und genau zu vergleichen und innerhalb der Inspektionsmaske zu zentrieren. Das Asset unterstützt auch die Fehlerklassifizierung durch intelligente Algorithmen und kann Fehler in Echtzeit mit unterschiedlichen Vertrauensstufen erkennen. Schließlich ist es in der Lage, Schichtdickenmessungen und Parsing-Merkmals- und Fehlerinformationen durchzuführen, um einen vielseitigen Satz von Berichten und Analysen zu erzeugen. Durch die Kombination aus hochauflösender Bildgebung, fortschrittlichen Mustererkennungsalgorithmen und schnellen Verarbeitungsgeschwindigkeiten ist KLA/TENCOR 2139 zum Standard für die Masken- und Waferinspektion in der Halbleiterindustrie geworden. Mit seiner branchenführenden Leistung und Benutzerfreundlichkeit ist es eine ideale Wahl für eine hochmoderne, kostengünstige Halbleiterproduktion.