Gebraucht KLA / TENCOR 2139 #9230684 zu verkaufen
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ID: 9230684
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Wafer inspection system, 8"
Open cassette
User interface
Monitor with PC
Stages:
X Stage bracket
Theta stage
Image computer:
IMC0
IMC1
IMC2
IMC3
Power supplies:
+12 VDC E-Drawer
24 VDC E-Drawer
-24 VDC E-Drawer
+48 VDC E-Drawer
+65 VDC E-Drawer
2000 vintage.
KLA/TENCOR 2139 ist eine Masken- und Waferinspektionslösung, die Fehler an Waferprozessen vor und nach der Photomaskenherstellung erkennt. Das System bietet eine Kombination aus bildgebenden Ports, Maskenausrichtern, fortschrittlichen optischen und Beleuchtungssystemen und ausgeklügelten Algorithmen, um subtile, aber kritische Fehler an der Photomaske zu erkennen. Die bildgebenden Anschlüsse der KLA 2139 ermöglichen eine hochauflösende Abbildung der Fotomaske, indem Unterschiede in den Lichtreflexionen erkannt und dem Benutzer angezeigt werden. Es verfügt über eine Vollrahmeninspektion, die eine vollständige Abdeckung des gesamten Inspektionsbereichs gewährleistet und Merkmale bis zu 0,25 Mikrometer erkennen kann. Seine optischen und Beleuchtungssysteme umfassen erweiterte Strahlablenkung, direkten/variablen Fokus, schräge Beleuchtung und Rückstreuung/durch Übertragung, um subtile Defekte genau zu erfassen. Die Maskenausrichter hingegen sorgen für eine präzise Ausrichtung zwischen Maske und Wafer. TENCOR 2139 verfügt über eine ausgeklügelte Softwareplattform, die spezielle Funktionen für die Masken- und Waferinspektion bietet. Seine fortschrittlichen Algorithmen ermöglichen eine automatisierte Untersuchung von Fehlern an der Photomaske und ermöglichen eine effiziente Sortierung von reinen Fehlern aus falschen Anzeigen. Das Gerät umfasst eine intelligente Autofokus-Maschine, die automatisch die Fokuspositionen jedes geprüften Feldes sammelt. Es verfügt auch über kontextsensitive Befehle, die eine intuitive Bedienung und eine verbesserte Produktivität ermöglichen. Insgesamt ist 2139 Tool eine ideale Lösung zur Erkennung von Defekten bei Photomaskenprozessen und bietet eine kostengünstige und effiziente Lösung zur Inspektion von Masken und Wafern. Es kombiniert hochauflösende Bildgebung, fortschrittliche optische und Beleuchtungssysteme, zuverlässige Maskenausrichtung und ausgefeilte Algorithmen, um genaue, präzise und zuverlässige Inspektion von Photomaskenprozessen zu gewährleisten.
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