Gebraucht KLA / TENCOR 2139 #9244609 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2139 ist ein High-End Maske & Wafer Inspection Equipment. Es ist für die Inspektion, Analyse und Messung von integrierten Schaltungswafern konzipiert, so dass Hersteller Anomalien schnell erkennen können. Das System eignet sich für den Einsatz in fortschrittlichen Lithographieverfahren wie der Immersionslithographie oder der Doppelmusterung. Die KLA 2139 verwendet einen einzigartigen 5x optischen Strahlengang, um Wafer schnell und genau auf Fehler und kritische Parameter zu überprüfen. Seine extrem genaue Mustererkennung, Anomalieerkennung und Lithographie-Maskierungsalgorithmen ermöglichen eine genaue Prüfung empfindlicher Geräte während des gesamten Inspektionsprozesses. Das Gerät bietet auch eine Reihe von Funktionen wie automatische Fehlerkategorisierung, Echtzeit-Fehlerüberprüfung und Prozess-Edge-Mapping. Die Maschine umfasst fortgeschrittene Beleuchtungstechniken wie Hellfeld und Dunkelfeld sowie verschiedene bildgebende Modi wie Backscatter-Bildgebung und ultraviolette Bildgebung. Diese Techniken helfen, Funktionen und Details aufzudecken, die für herkömmliche Inspektionen oft nicht sichtbar sind. Die Kombination aus fortschrittlicher Beleuchtung, Bildverarbeitungsmodi und Mustererkennungsfunktionen liefert schnelle, leicht zu interpretierende Ergebnisse und fundiertere Entscheidungen. TENCOR 2139 kann auch Ausrichtungs-, Overlay- und Overlay-Abweichungsmessungen durchführen - wesentlich für eine präzise Positionierung bei Lithographieprozessen. Dadurch wird eine gleichmäßige Dicke des aufgebrachten Resists und eine gleichmäßige Auflösung über den Wafer gewährleistet. Es hilft auch, kostspielige Maskenänderungen und Nacharbeiten zu reduzieren. Das Tool ist mit einer proprietären automatischen Fokussierungstechnologie ausgestattet, die die Bildgebungszeit reduziert, indem sie sich vor jedem Schuss automatisch auf den Wafer konzentriert. Die starre Konstruktion auf Granitbasis und die Schwingungsisolierung halten die Maßtoleranzen auch in Produktionsumgebungen mit hoher Dichte in Schach. Mit seiner Benutzerfreundlichkeit, erweiterten Fähigkeiten und Flexibilität ist 2139 ein ideales Werkzeug für die fortschrittliche Lithographie- und Mikroelektronik-Produktion.