Gebraucht KLA / TENCOR 2139 #9351630 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2139 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist eine einzigartige Lösung für Maske und Wafer Ausbeute und Prozesskontrolle. Das KLA 2139 System ermöglicht eine automatisierte Mustererkennung mit hoher Genauigkeit und ermöglicht eine schnelle und wiederholbare Analyse. Das Gerät besteht aus einer lithographischen Bildgebungs- und Analysemaschine, einem Maskenausrichtungswafer-Scannerstrahl und einem integrierten Inspektionswerkzeug. Die lithographische bildgebende Anlage verfügt über mehrere ausgeklügelte Optik- und Beleuchtungssysteme, die kleine Defekte auch auf sehr kleinen Flächen erkennen können. Der Maskenausrichter ist in der Lage, feinmaßstäbliche Struktur- und Sub-Mikron-Musterschwankungen wie Linienkantenrauhigkeit (LER) zu erkennen. Der Wafer-Scannerstrahl erzeugt ein hochauflösendes Bild der Masken- oder Waferstruktur, das dann zur Erkennung von Defekten analysiert wird. Die Algorithmen des Modells können Fehler im Bereich von 0,2 Mikrometer bis 10 Mikrometer erkennen und bieten beispiellose Erkennungsgenauigkeit und Wiederholbarkeit. Die Bildverarbeitungstechnologien des Geräts ermöglichen eine präzise Fehlererkennung und ermöglichen eine exakte Masken- und Waferinspektion. Das System bietet auch Vielseitigkeit bei der Erkennung einer Vielzahl von Variationen von Einzel- und Mehrfachmustern bis hin zu geometrischen Mustern sowie prozessgenerierten Defekten. Darüber hinaus ist die Einheit in der Lage, Fehler auf verschiedene Weise zu charakterisieren und zu analysieren, einschließlich der Inspektion von Rohlingen sowohl bei vorbelichteten als auch bei nachbelichteten Bedingungen. Darüber hinaus ermöglicht es die Bildanalyse mit Programmierflexibilität und beinhaltet eine Analyse-Suite von Tools, die individuelle Anwenderanforderungen erfüllen. Schließlich ermöglicht die benutzerfreundliche Benutzeroberfläche der Maschine eine einfache Konfiguration, Datenmanipulation und erweiterte Analysen. Im Rahmen seiner umfassenden Berichts- und Protokollierungsfunktionen bietet es zahlreiche Kennzahlen wie Fehlergröße, Standort, Typ, Menge und Ursache. Darüber hinaus kann es auch 3D-surface Anzeige der geprüften Maske oder des Wafers bereitstellen und sektorbasierte Berichte generieren. Insgesamt bietet TENCOR 2139 ein beispielloses Masken- und Waferinspektionswerkzeug mit effizienten und wiederholbaren Fehlerinspektionsmöglichkeiten. Es bietet auch integrierte Fehleranalyse und Reporting-Lösungen, um die Bedürfnisse der Benutzer zu erfüllen. Es ist eine einzigartige Lösung für die Gewährleistung der Ertrags- und Prozesskontrolle, die es Anwendern ermöglicht, Leistung über eine breite Palette von Geräten zu garantieren.