Gebraucht KLA / TENCOR 219 SWD #293635821 zu verkaufen

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ID: 293635821
Weinlese: 1988
Mask inspection system 1988 vintage.
KLA/TENCOR 219 SWD ist eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die Qualitätssicherung in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Dieses Multisensorsystem ist in der Lage, Defekte auf Nanometerebene zu erkennen und Wafergrößen bis 300mm zu handhaben. KLA 219 SWD ist für Inline-Anwendungen konzipiert und mit vier Hellfeld- und drei Dunkelfeldoptiken ausgestattet. Dadurch können Sub-5nm-Defekte auf strukturierten Siliziumschichten mit einer Best-in-Class-Empfindlichkeit und einem Durchsatz von 50 Wafern pro Stunde erkannt werden. Ein fortschrittlicher proprietärer Video Flex Algorithmus sorgt für umfassendere und genauere Inspektionsergebnisse. Das Gerät verfügt über fortschrittliche bildgebende und messtechnische Werkzeuge, wie z. B. KLA Image Navigation Machine (INKs), um Fehlerinspektionen höchster Qualität, Messungen der Kantenplatzierung und erweiterte Maskeninspektionen zu erreichen. Es ist auch mit fortschrittlichen Segmentierungsmethoden ausgestattet, die es ermöglichen, echte Fehler von Fehlalarmen zu unterscheiden. Zusätzlich können Waferinspektionsparameter über das Global Remote Tool (GRS) des Unternehmens ferngesteuert und in Echtzeit angepasst werden. TENCOR 219SWD verfügt über eine Touchscreen-Benutzeroberfläche, mit der Bediener problemlos zwischen Systemen wechseln, Prüfparameter anpassen und Messdaten anzeigen können. Die Benutzeroberfläche bietet auch Zugriff mit einem Klick auf erweiterte automatische Fehlerüberprüfung (ADR) und erweiterte Bildgebungsoptionen sowie automatisierte Platzierungsgenauigkeitsmessungen für Kanten und kundenspezifische Algorithmen für kundenspezifische Inspektionen. 219SWD bietet eine Vielzahl von spezialisierten intelligenten Inspektionstechnologien wie Oberflächenfehlererkennung, Masken- und Waferinspektion, Spannungsmessung und Stempelprüfung. Es ist mit Sicherheit und Sauberkeit im Auge gebaut und eignet sich für 200, 300 und 450mm Wafergrößen. Letztendlich ist KLA/TENCOR 219SWD eine technologisch fortschrittliche, zuverlässige Inspektionsanlage, die beste Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Effizienz bei der Erkennung von Fehlern auf Nanometerebene bietet. Die breite Palette an Funktionen, automatisierten Funktionen und benutzerfreundlichen Benutzeroberflächen machen es zu einer idealen Wahl für die Qualitätssicherung in der Halbleiterindustrie.
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