Gebraucht KLA / TENCOR 2350 #9136721 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

KLA / TENCOR 2350
Verkauft
ID: 9136721
High resolution imaging inspection system, 8"-12" Dual FIMS EFEM, 8" GEM SECS and HSMS Signal light tower XENON Lamp: 150 W Wave length illumination: 370 ~ 720 nm Wave length band: Visible, UV, i-line Pixel size: 160 ~ 250 nm MM2S Board User Interface (Ul): Computer monitor Wafer display Industrial PC (IPC) Image computer (IMCs) Inspection Station (IS): Granite suspension Optics plate Air filter Stage cooling Wafer handler (EFEM) Dual open, 8"-12" Dual SMIF, 8" Dual FIMS, 8"-12" Missing parts: Hard Disk Drive (HDD) Keyboard, mouse and joystick Solenoid board with valve and AF LED board Y1 Flex board (2) FVPA Boards Robot controller Fan Filter Unit (FFU) Ul and IS Cable RGB Cable RS232 Cable Joystick cable EMO Cable (4) IMACS TO UI Cables (2) AZP FFA Cables MIB Cable Digital camera cable 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350 ist eine hochleistungsfähige Inspektionsplattform, die präzise, wiederholbare und automatisierte mehrschichtige dielektrische und messtechnische Messungen bietet. Das System nutzt spezialisierte Optik, die für die spezifischen Bedürfnisse des Lithographiemarktes entwickelt wurde, einschließlich Dioden-, OCT und linear-variable Beugungsgitter (LVDP). Die UCK 2350 ist in der Lage, sowohl die Reflexivität als auch die Streuung von Dielektrika auf den Retikeln und Wafern zu messen. Es hat einen abstimmbaren Wellenlängenbereich von 355 Nanometern bis 730 Nanometern, wodurch es für Inspektionen in einer Vielzahl von Materialien und Anwendungen geeignet ist. Es hat einen hohen Dynamikbereich und eine ausgezeichnete Empfindlichkeit, die Bilder mit Auflösungen bis zu 0,4 µm bereitstellen kann. Die Inspektionseinheit umfasst auch mehrere spezialisierte Programmieralgorithmen wie Wafer-Teilfehleranalyse, Retikeldurchzugsanalyse und dielektrische Profilmessung. Es ist mit leistungsstarken Bildverarbeitungs- und Datenanalysefunktionen integriert, einschließlich Mura-Erkennung, automatische Ausrichtung und Bildnähte. Diese Maschine verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die dem Benutzer den einfachen Zugriff, die Konfiguration und die Steuerung des Instruments ermöglicht. Es bietet auch Konnektivität zu externen Datenbanken, so dass Benutzer die Prozessdaten einfach mit Qualitätskontrollprogrammen verknüpfen können. TENCOR 2350 wurde entwickelt, um konsistente Ergebnisse zu liefern, die Variabilität zu reduzieren und die Zeit zu verringern, um Fehler in fortgeschrittenen Photomaske- und Waferprozessen zu erkennen. Mit seinen erweiterten Bildverarbeitungsfunktionen kann das Tool Fehler schnell in Echtzeit erkennen und analysieren. Darüber hinaus ermöglichen die integrierte Messtechnik und die automatisierte Analysesoftware eine präzise, wiederholbare dielektrische Charakterisierung in einem Schritt. Insgesamt sind 2350 Inspektionen eine effiziente, kostengünstige Lösung für Zuverlässigkeit und Leistungssteuerung in der Halbleiterindustrie. Seine fortschrittlichen Technologien, wie Laserbeugung, OCT und Diode, bieten beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Mit integrierter Software und intuitiver Benutzeroberfläche ist es eines der effizientesten und zuverlässigsten Systeme auf dem Markt.
Es liegen noch keine Bewertungen vor