Gebraucht KLA / TENCOR 2350 #9184410 zu verkaufen

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KLA / TENCOR 2350
Verkauft
ID: 9184410
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Imaging inspection system, 8" Type: SMIF Robot: Dual SMIF EFEM, 8" GEM SECS and HSMS Signal light tower XENON Lamp: 150 W Wave length illumination: 370 ~ 720 nm Wave length band: Visible, UV, I-line Pixel size: 160 ~ 250 nm Stage: X, Y, Theta (48) IMC Boards MM2M and MM2S Missing parts: UI Main power cable SOC Solenoid 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System ist speziell für die Untersuchung von Verunreinigungen, Defekten und anderen Defekten ausgelegt, die die Leistung eines Chips oder Wafers beeinträchtigen können. Das Gerät verwendet eine Kombination aus fortschrittlicher Optik und digitaler Bildgebungstechnologie, um sowohl die Vorder- als auch die Rückseite der Maske oder des Wafers zu untersuchen. KLA 2350 verwendet vier Kameras, um eine präzise 3D-Bildgebung und eine präzise Fehlerlage zu erreichen. Die Maschine verwendet Vier-Wellenlängen-Beleuchtung - drei Hellfeld, ein Dunkelfeld - für eine Vielzahl von Inspektionsmodi, die eine genaue Erkennung solcher Defekte wie Partikel, Kratzer, Risse, Gruben und andere unregelmäßig gebildete Partikel ermöglichen. Die High-End-Optik des Werkzeugs eignet sich auch gut für die genaue Detektion von nassen Partikeln. TENCOR 2350 verfügt über eine breite Palette von Funktionen, um eine einfache und präzise Inspektion zu gewährleisten. Zu diesen Funktionen gehören das automatische Be- und Entladen der Maske und des Wafers, eine erweiterte Musterverzerrungserkennung, mehrere Beleuchtungsstufen und ein Lichtsteuerungselement. Das Modell enthält auch erweiterte Software zur Fehleranalyse und -berichterstattung, mit der Benutzer Probleme schnell erkennen und beheben können. 2350 bietet auch Schutz vor In-Prozess-Verunreinigungen, wie Partikel und flüssige Verunreinigungen. Die eingebaute Verschmutzungsvermeidungseinrichtung schirmt alle eintreffenden Partikel aus dem Inspektionsbereich aus und kann sogar Partikel erkennen, die bereits in das System eingedrungen sind. Dies gewährleistet die Sicherheit sowohl des Wafers als auch des Probenmaterials. Insgesamt ist KLA/TENCOR 2350 eine hochentwickelte, flexible Masken- und Wafer-Inspektionseinheit. Seine überlegene Optik, digitale Bildgebungssysteme und fortschrittliche Software machen es ideal, um Kontaminationen und Defekte zu erkennen und zu beheben. Die detaillierte Echtzeit-Berichterstattung und die fortschrittlichen Imaging-Tools der Maschine ermöglichen es Anwendern, die höchste Produktqualität zu erreichen.
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