Gebraucht KLA / TENCOR 2350 #9250155 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2350 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die bei der Herstellung mikroelektronischer Geräte eingesetzt wird. Es kombiniert bildgebende Technologie, fortschrittliche Mustererkennungsalgorithmen und hochgenaue Overlay-Messungen, um Fehler in Masken und Wafern zu erkennen. Es wurde entwickelt, um präzise und zuverlässige Messungen von Defekten zu ermöglichen, auch in komplexen Mustern. KLA 2350 verwendet ein Rasterelektronenmikroskop (SEM), um integrierte Schaltungen, Masken und Wafer abzubilden. Dies ermöglicht es, auch kleinste Mängel zu erkennen. Mit Hilfe von Algorithmen, die speziell für die automatisierte Inspektion entwickelt wurden, kann TENCOR 2350 sowohl partikel- als auch musterbasierte Defekte wie Rückstände und Oxidation erkennen. Ein Hochleistungs-Bildprozessor wird verwendet, um Fehler schnell zu erkennen, während leistungsstarke optische Filter und Signal-/Rauschverarbeitungstechniken genaue und zuverlässige Messungen ermöglichen. Das System kann auch zur Charakterisierung von Wafermustern und zur Verifizierung von Qualitätskontroll- und Prozesskontrollstandards verwendet werden. Seine erweiterte Overlay-Messfähigkeit verwendet einen Open-Source-Algorithmus, um das Muster und die Überlagerungsgenauigkeit von abgetasteten Strukturen zu berechnen. Dies trägt zur Gewährleistung einer präzisen Produktion, einer schnelleren Durchlaufzeit und eines höheren Durchsatzes bei. 2350 kann mit anderen Systemen integriert werden, so dass die Bediener von Produktionsanlagen Mängel einfach und effizient erkennen können, ohne jeden Wafer manuell überprüfen zu müssen. Es ist eine ideale Einheit für Halbleiterherstellung, Waferherstellung und Qualitätskontrolle. Die Maschine ist auch tragbar und einfach einzurichten und zu bedienen. Die vom Werkzeug erzeugten Messungen sind hochgenau und wiederholbar. Zusammenfassend ist KLA/TENCOR 2350 eine hochgenaue und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektion. Es kombiniert Bildgebungs- und Mustererkennungsalgorithmen, um auch kleinste Fehler zu erkennen und kann für eine effizientere und komfortablere Qualitätskontrolle in andere Systeme integriert werden. Das Modell bietet eine schnelle und zuverlässige Möglichkeit, Fehler zu erkennen und ist damit eine ideale Lösung für die Halbleiterherstellung, die Herstellung von Wafern und die Qualitätskontrolle.