Gebraucht KLA / TENCOR 2350 #9250244 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2350 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ein leistungsstarkes Oberflächeninspektionswerkzeug zur Messung komplexer Formen und Funktionsgrößen auf Masken und Wafern. Die hervorragende 3D-Messauflösung und Bildverarbeitung machen es zu einer idealen Wahl für die Inspektion hochkomplexer integrierter Schaltungsstrukturen (IC) wie MEMS und 3D-Geräte. Die KLA 2350 wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Merkmalen und Strukturen wie Mikromuster, Hohlräume, Kontaktlöcher, Unterschnitt-/Überschnittgeometrien, Übersprünge, Überbrückungen und Partikel genau zu erkennen. Es kann verschiedene Muster messen, einschließlich Linienbreiten bis zu 25nm, Rundungen bis zu 70nm, Quadrate bis zu 80nm und Rechtecke bis zu 100nm. Die Einheit kann eine präzise Oberflächenanalyse sowohl von quadratischen als auch nicht-quadratischen Schichten sowie von mehreren Schichten ermöglichen, die in einem einzigen Wafer vorgesehen sind. TENCOR 2350 Maschine ist mit einem hochauflösenden 5µm wahlfreien Scan-Kopf mit 128 unabhängigen Kanälen ausgestattet. Jeder Kanal kann einzelne Neigungen und Kollaps verfolgen, um genaue und wiederholbare Messergebnisse zu gewährleisten. Es verfügt über eine hochmoderne Software zur Bildverarbeitung, die speziell für die Inspektion kritischer Strukturen auf Masken- und Waferoberflächen entwickelt wurde. Die intuitive Benutzeroberfläche hilft Anwendern, schnell loszulegen und Inspektions-Setups einfach zu konfigurieren und durchzuführen. 2350 bietet ein Hochgeschwindigkeitskontrollwerkzeug, um eine breite Palette von Oberflächen in einem Durchgang zu inspizieren. Seine praxiserprobte Architektur liefert zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse. Die Maschine wird von fortschrittlichen Computeralgorithmen angetrieben, die es ihm ermöglichen, selbst die kleinsten Fehler schnell zu erkennen. Insgesamt ist KLA/TENCOR 2350 Mask and Wafer Inspection Asset ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug, das präzise, wiederholbare Oberflächeninspektionsergebnisse liefert. Es ist in der Lage, auch die kleinsten Mängel zu identifizieren, so dass es eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Masken- und Waferinspektionsanwendungen ist.