Gebraucht KLA / TENCOR 2350 #9270104 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9270104
Wafergröße: 8"-12"
Weinlese: 2001
High-resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual open EFEM, 12"
GEM SECS and HSMS
Signal light towers: (4) Colors (R, Y, G, B)
Xenon lamp: 150 W
Wavelength illumination: 370~720 nm
Wavelength band: Visible, UV, I-line
Pixel size: 160~250 nm
User interface:
Monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
(44) IMC Boards
Does not include MM2S board
Inspection station:
Granite suspension: Power
Blower stage
Pneumatics optics plate
Air filter
Wafer handler (EFEM):
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board
LP2 Cover
Robot controller
UI and IS connecting cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS to UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um Fehler in Halbleiterscheiben und Masken zu identifizieren, die bei der Herstellung fortschrittlicher integrierter Schaltungen verwendet werden. Dieses System nutzt eine Kombination aus Beleuchtungs- und Betrachtungsfunktionen, Bildverarbeitungstechniken und Bild- und Datenverarbeitung, um Fehler zu erkennen und zu analysieren, die sonst schwer zu erkennen sind. Die KLA 2350 ist mit einer Reihe fortschrittlicher optischer Komponenten ausgestattet, darunter eine Lichtquelle, ein 5-Megapixel-CMOS-Bildsensor, eine Bildoptik und eine spezialisierte reflektierende und Transmissionsoptik. Die Lichtquelle der Einheit verwendet 6 schmalbandige Spektralscheiben in den sichtbaren und nahinfraroten (NIR) Wellenlängen, um einen hohen Dynamikbereich und Kontrast für die Abbildung von opaken und halbtransparenten Mustern zu bieten. Darüber hinaus bietet die bildgebende Optik der Maschine Korrekturfunktionen wie Feldkrümmung und Verzerrung, Schärfe, Beleuchtung und Fokus für eine verbesserte Werkzeugleistung. Der CMOS-Bildsensor von TENCOR 2350 kann bis zu 10 Wafer pro Sekunde mit einer Auflösung von bis zu 500 nm scannen und gewährleistet so eine qualitativ hochwertige Bildaufnahme. Das Asset bietet auch wellenlängenspezifische Fehlererkennungen, die die verschiedenen Beleuchtungs- und Betrachtungsfunktionen nutzen, um Fehler mit bestimmten Wellenlängen des Lichts zu identifizieren. Um die Datenanalyse zu erleichtern, verfügt 2350 über ein leistungsstarkes Bild- und Datenverarbeitungsmodell. Dieses Gerät ist in der Lage, sowohl Masken- als auch Waferdefekte zu messen, zu analysieren und zu klassifizieren. Es wurde mit fortschrittlichen Algorithmen entwickelt, um Bilder höchster Qualität und Fehlererkennung auch in Serienumgebungen zu gewährleisten. Darüber hinaus ist das System mit integrierten Inspektionswerkzeugen wie automatisierter Mikroskopie und Bildanalysesoftware ausgestattet, die eine extrem präzise und automatisierte Fehlererkennung ermöglichen. KLA/TENCOR 2350 ist eine sehr vielseitige und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektionseinheit. Mit seiner fortschrittlichen Optik und den leistungsstarken Bildverarbeitungs- und Analysefähigkeiten ist es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die erfolgreiche Produktion fortschrittlicher Halbleiter-ICs geworden.
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