Gebraucht KLA / TENCOR 2350 #9296887 zu verkaufen

ID: 9296887
Weinlese: 2000
High-resolution imaging inspection system 2000 vintage.
KLA/TENCOR 2350 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ein hochmodernes Bildgebungs- und Inspektionssystem, das den Durchsatz und die Genauigkeit der Produktion von hochvolumigen Halbleitern maximiert. Dieses Gerät nutzt fortschrittliche optische und bildgebende Technologien, um die Masken und Wafer während des Herstellungsprozesses effizient zu überprüfen. Erstens erhält KLA 2350 hochauflösende Bilder sowohl der Masken als auch der Wafer. Die Maschine verwendet beugungsbasierte Bildgebung, um eine genaue Erfassung von Merkmalen und Defekten zu gewährleisten. Dieses Imaging-Tool enthält auch ein integriertes Vision-Asset, das die Bildsegmentierung zur Verbesserung der Inspektionsgenauigkeit verwendet. Dieses integrierte Vision-Modell dient dann zur schnellen Erkennung von Fein- und Submikron-Merkmalen und Fehlern und zur genauen Klassifizierung. TENCOR 2350 verwendet auch fortgeschrittene Mustererkennungsalgorithmen, um sowohl die Masken als auch die Wafer zu analysieren, um eventuelle Fehler oder Anomalien zu identifizieren. Diese Mustererkennungseinrichtung ist in der Lage, verschiedene Arten von Defekten schnell zu erkennen, wie Kratzer, Hohlräume, Nadelöcher und Versetzungen. Sobald das System diese Mängel identifiziert hat, kann es sie entweder melden oder für Prozessverbesserungen beraten. Schließlich verfügt 2350 über eine leistungsstarke spektrale Bildgebungseinheit. Diese Maschine bietet hochpräzise spektrale Bildgebung, die subtile Defekte in den Masken und Wafern erkennen kann. Die spektrale Bildgebung wird mit Hochleistungsfiltern kombiniert, um den Ort und die Größe etwaiger Defekte genau zu identifizieren. All diese Merkmale machen KLA/TENCOR 2350 zu einem attraktiven Inspektionswerkzeug für die Produktion von großvolumigen Halbleitern. Die Kombination aus hochauflösender Bildgebung, integrierter Sicht, fortschrittlichen Mustererkennungsalgorithmen und hochpräziser spektraler Bildgebung ermöglicht es der KLA 2350, Masken und Wafer genau und schnell zu überprüfen und gleichzeitig die Möglichkeit von Fehlerkennungen und Fehlalarmen zu minimieren. Dadurch wird sichergestellt, dass jeder Produktionsablauf effizienter und präziser ist als je zuvor.
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