Gebraucht KLA / TENCOR 2351 #293606934 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2351 ist eine führende Wafer- und Maskeninspektionsanlage, die entwickelt wurde, um hochauflösende Messungen der Oberfläche und des Profils der Düsenstruktur, der Schichten und Informationen zu Herstellungsfehlern bereitzustellen. Dieses hochentwickelte System ist mit einer Reihe von digitalen Bildgebungs-, automatisierten Analyse- und fortschrittlichen Waferoberflächen- und Maskeninspektionstechnologien ausgestattet. Die KLA 2351 ist in der Lage, die Abmessungen und Materialien von Merkmalen schnell und präzise zu überprüfen, die Fehlersicherheit und die kontinuierliche Prozessverbesserung zu unterstützen. TENCOR 2351 ist mit einer Macro Die Inspection Maschine ausgestattet, die die Inspektion von bis zu 2000 Würfel auf einem 3 "-Wafer in Vollfeldauflösung ermöglicht. Mit der fortschrittlichen Bildgebungstechnologie von 2351 können Bilder mit bis zu 8 MP aufgenommen werden. Die KLA/TENCOR 2351 ist auch in der Lage, nach Defekten wie Seitenwandrauhigkeit, Defekten durch vorherige Prozessaktivität, Würfelschäden oder unerwünschter Strukturierung zu suchen. Das fortschrittliche Maskeninspektionswerkzeug der UCK 2351 ermöglicht die Inspektion von Masken mit Hochleistungs-Bildgebung und Scannen. Die Optik für die Maskeninspektion wurde für hochauflösende Bildgebung, wie z.B. mit Rückseitenbildern und CD-Messungen, konzipiert. Die 2351maske Asset ist in der Lage, Maskenbilder von bis zu 2µm Funktionen mit höchster Genauigkeit und Präzision zu lesen. Darüber hinaus können Substratfehler wie CD-Fehlanpassung und CD-Gleichmäßigkeit mithilfe ihres CD-SEM-Bildgebungsmodells mit Sub-µm-Genauigkeit überwacht werden. TENCOR 2351 ist auch mit einer ausgeklügelten automatisierten Fehleranalyse ausgestattet, die mikroskopische Defekte automatisch identifizieren und über die Art der festgestellten Defekte berichten kann. Die heutigen fortschrittlichen Halbleiterbauelemente erfordern immer höhere Auflösungsprozesse bei der Halbleiterherstellung, und 2351 ist mit modernster Software ausgestattet, die Partikel, Gruben, Gruben und andere kritische Oberflächenfehler überwachen, messen und klassifizieren kann. Darüber hinaus bietet KLA/TENCOR 2351 eine umfassende Palette von Datenanalyse- und Berichtsfunktionen, mit denen sich Prozessingenieure problemlos zwischen automatisierter Fehleranalyse, Anlagenverwaltung und Prozesssteuerung bewegen können. Zusammenfassend ist KLA 2351 ein wirklich fortschrittliches, funktionsreiches System zur Inspektion von Wafern und Masken. TENCOR 2351 bietet hochauflösende Bildgebung, automatisierte Fehleranalyse und erweiterte Waferoberflächen- und Maskeninspektionsfähigkeiten, die bei der Prozesskontrolle und Fehlersicherung unterstützt. Darüber hinaus kann 2351 mit seiner automatisierten Analyseeinheit mikroskopische Defekte mit Leichtigkeit und Genauigkeit erkennen und dem Verfahrenstechniker die bestmögliche Sicherheit und Kontrolle bieten.