Gebraucht KLA / TENCOR 2351 #9136720 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9136720
High resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual FIMS EFEM, 12"
GEM SECS and HSMS
Signal light tower
XENON Lamp, 150 W
Wave length of illumination: 370 ~ 720 nm
Wave length band: Visible, UV and i-line
Pixel size: 160 ~ 250 nm
User Interface (Ul)
Computer monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
Inspection station:
Granite suspension power
Stage cooling: Blower
Optics plate pneumatics
Air filter
Wafer handler (EFEM)
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board
LP2 Cover and robot controller
Ul and IS Cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS TO UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Es ist ein leistungsstarkes, kostengünstiges Werkzeug zum Sammeln detaillierter Bilder und Messungen von Halbleiterscheiben und Masken. KLA 2350 hat die Fähigkeit, Daten bei der Submikronauflösung schnell zu erfassen und zu analysieren, was eine schnelle und genaue Waferinspektion, Fehlererkennung und Qualitätskontrolle ermöglicht. TENCOR 2350 verfügt über ein fortschrittliches optisches Design, das eine höhere Auflösung und ein überlegenes Signal-Rausch-Verhältnis im Vergleich zu ähnlichen glühenden Gittermasken ermöglicht. Es verwendet auch hochgenaue, plasmabasierte MOEMS (Microelectro-mechanical) -Scanstufen für schnelles und wiederholbares Scannen von Wafern und Masken. 2350 hat ein großes Sichtfeld (12 „x 12“) ohne Verzerrung, was eine breite Palette von Inspektionsaufgaben sowohl für planare als auch für kreisförmige Strukturen ermöglicht. KLA/TENCOR 2350 ist mit einem leistungsstarken 1,3-Megapixel-Sensor ausgestattet, der eine schnelle und genaue Datenerfassung ermöglicht. Der Sensor kann mit einer Reihe von verschiedenen Modi konfiguriert werden, einschließlich Hellfeld, Dunkelfeld und genähte Bilder. Es ist auch mit einer kompletten Reihe von Fehlerüberprüfungs-, Klassifizierungs- und Vergleichswerkzeugen sowie einer Vielzahl weiterer Bildverarbeitungsfunktionen ausgestattet. Für fortgeschrittene Maskeninspektionsanwendungen verfügt KLA 2350 über ein integriertes hochauflösendes Demodulationssystem, das eine höhere Genauigkeit als herkömmliche Systeme bieten kann. Die Demodulationseinheit kann Kantenerkennung, Fehlerisolierung und Fehlererkennung in Echtzeit durchführen. Darüber hinaus enthält TENCOR 2350 auch eine integrierte Host-Software-Architektur, die eine einfache Integration mit anderen Instrumenten für eine verbesserte Leistung ermöglicht. 2350 ist ideal für anspruchsvolle Anwendungen, die wiederholbare und zuverlässige Inspektion, Messung und Analyse erfordern. Es ist so konzipiert, dass es hoch konfigurierbar ist, um den spezifischen Bedürfnissen einer Vielzahl von Kunden gerecht zu werden, von Forschern bis hin zu Serienproduktionslinien. Die Maschine kann sowohl im Labor als auch in Produktionsumgebungen eingesetzt werden und bietet eine effektive Lösung zur Verbesserung der Qualitätskontrolle und zur Reduzierung von Prozessfehlern.
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