Gebraucht KLA / TENCOR 2367 #293815941 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2367 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die mit fortschrittlicher Prozesskontrolle und Ertragsmanagement ausgestattet ist. Dieses System wurde speziell entwickelt, um sicherzustellen, dass die Integrität von Maske und Wafer mit strenger Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit erreicht wird. Das Gerät integriert Hochgeschwindigkeits-Scanning, Bildverarbeitung und Inspektionsanalyse, um Defekte auf Masken- und Waferebene zu erkennen. KLA 2367 hat die Fähigkeit, Partikelfehler und Variabilität zu erkennen, die es Anwendern ermöglichen, Prozesskontrollparameter genau zu überwachen und die richtigen Erträge zu gewährleisten. Es kann auch subtile Fehler und Variabilität in einem einzigen Scan erkennen, die sonst in herkömmlichen Inspektionsplattformen unentdeckt bleiben können. Die Maschine verfügt über automatische Ausrichtungs- und Wafer-Mapping-Funktionen sowie ein hochsensibles Messtechnik-Tool, das sicherstellt, dass die Wiederholbarkeit von Masken und Wafern mit höchster Genauigkeit erreicht wird. TENCOR 2367 bietet zwei Arten der Inspektion: Hellfeld und Dunkelfeld. Die Brightfield-Inspektion wurde entwickelt, um Kontrastschwankungen, Partikelfehler und durchscheinende Filmdefekte zu erkennen. Es kann auch Partikel oder Verunreinigungen nachweisen, die die Ausbeute eines Wafers und einer Maske beeinflussen können. Die Dunkelfeldinspektion hingegen dient der Erkennung von Partikeldefekten sowie dunklen Flecken und anderen Ungleichförmigkeiten in einem Substrat. 2367 ist ein leistungsfähiges Asset, das eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen zur Inspektion von Masken und Wafern bietet. Es verfügt über eine effiziente automatisierte Bildverarbeitung und einfach zu bedienende intuitive Tools, die die Bedienung und Wartung erleichtern. Seine hochauflösenden Funktionen, kombiniert mit Echtzeit-Prozesssteuerung und Ertragsmanagement, machen es zu einer idealen Lösung für kritische Masken- und Waferinspektionsanforderungen. Die schnellen Scanraten sorgen dafür, dass eine umfassende Überwachung von Defekten und Variabilität in einem einzigen Scan durchgeführt werden kann. Dies führt zu genauen und zuverlässigen Ausbeuten für kritische Wafer und Masken.