Gebraucht KLA / TENCOR 2367 #9029088 zu verkaufen

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KLA / TENCOR 2367
Verkauft
ID: 9029088
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Brightfield inspection system, 12" Install Type: Stand-Alone Cassette interface: (2) Asyst 300mm FIMS LPs (2) AdvanTag SW CID, G4 E84 for OHT w/PIO for G4 E40/E94 HW support Pre-aligner Main unit: Brooks robot BB visible pixels (um): 0.62, 0.39, 0.25 BB/I-Line/G-Line UV pixels (um): 0.20, 0.16, 0.12 Edge contrast Array & random modes High mag review optics High resolution review CCD Anti-blooming TDI IS Station Status lamp (R, Y, G, B, audible) 1600 MPSS image computer Operating system: Win 2000 Application SW ver: 10.4.507.0.5 GEM/SECS & HSMS Power line conditioner Remote power EPO Facility requirements: CDA Vacuum (house) Power (main): 208 VAC, 16 A, 3 phase, 5-wire (WYE), freq 50/60Hz 2004 vintage.
KLA/TENCOR 2367 Maske und Wafer Inspection Equipment ist eine Fertigungs-Messtechnik-Plattform, die entwickelt wurde, um verschiedene Fehlerinspektions-, Overlay- und CD-Messtechnik-Anwendungen zu unterstützen. Das System umfasst einen Hellfeldbeleuchter mit sowohl reflektierten als auch transmittierten Lichtklassen, eine Digitalkamera und eine leistungsstarke optische Ausrichtungsfähigkeit im Nanoskala. Dieses Gerät wurde entwickelt, um alle Größen von Masken und Wafern von 2 bis 12-Zoll-Maske und Wafergrößen mit einem Durchsatzbereich bis zu einer maximalen Eingangsauflösung von 50 Mikrometern aufzunehmen. KLA 2367 Maske und Wafer Inspektionsmaschine erfüllt die anspruchsvollen Anforderungen der Branche an Prozesskontrolle und totale Fehlerinspektion durch eine Kombination aus fortschrittlichen Konstruktions- und Leistungsmerkmalen. Das Tool bietet eine sehr schnelle automatisierte Maschinenausrichtung und ermöglicht die Erfassung hochauflösender Vollfeldbilder mit einem Hellfeldbeleuchter mit sowohl reflektierten als auch durchgelassenen Lichtklassen. Es bietet auch automatisierte Fehlerüberprüfung mit Musterklassifizierung und algorithmischer Fehlerüberprüfung und Fehlerklassifizierung mit sowohl Wafer-CD- als auch Kontaktmaskendaten als Eingabe im Vergleich zu Simulationsergebnissen. Die fortschrittliche Optik von TENCOR 2367 minimiert Variationen der CD- und Overlay-Messungen von Chip-to-Chip und im Laufe der Produktion. Darüber hinaus ermöglichen die Ausrichtungs-/Fokussierungsfunktionen des Assets eine präzise Platzierung der Maske oder des Wafers sowie die Ausrichtung innerhalb jeder Aufnahme. Die integrierte Mustererkennungssoftware ermöglicht eine schnelle Maskenscheibenfehlerklassifizierung und eine algorithmische Fehlerüberprüfung mit Wafer-CD- und Kontaktmaskendaten als Eingabe. 2367 Modell arbeitet auch mit einer Reihe von Software-Anwendungen und Tools für die Bilderfassung und Integration, Probe/Prozess-Analyse, Datenmanagement und Reporting. Jede dieser Anwendungen bietet eine integrierte Fähigkeit, die Ziele jedes Wafer-Messtechnik-Projekts zu sammeln, zu analysieren und zu kommunizieren. Die Software wurde entwickelt, um die Anforderungen des Kunden an Portabilität, Flexibilität und Skalierbarkeit zu erfüllen. KLA/TENCOR 2367 ist als zuverlässige und kostengünstige Messtechnik-Lösung für fortschrittliche Technologieknoten konzipiert. Das Gerät bietet intelligente Bedienung ohne manuellen Eingriff und automatisierte Echtzeit-Rückmeldung und Diagnose, um eine optimale Messleistung zu gewährleisten. Das integrierte System ist für den schnellen Aufbau und nahtlose Übergänge von einem Wafer zum nächsten konzipiert, so dass es einfach ist, qualitativ hochwertige und robuste Inspektionsergebnisse zu erzielen.
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