Gebraucht KLA / TENCOR 2367 #9197191 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9197191
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Inspection system, 12"
Wafer calibration kit include DSW / Shiny
Carrier ID HW Options
KEYENCE BCR single wire (2 CID devices)
Safety interlocks:
Open panel
Lamp
Facilities:
Power: 208V, 3 phase
Vw: 25 in Hg
CDA: 5 Sft/min
Exhaust: 600 ft3/min
Exhaust: 100 ft3/min
Exhaust: 1300 ft3/min
Integrated mini environment included
FEC Computer system with the following minimum features:
Intel pentium 4 CPU 3.00GHz
504MB memory (RAM)
Dell computer
Intel xeon CPU 3.4GHz
2GB Memory (RAM)
DVD-ROM
Mouse
Keyboard
IDM
InlineADC
ITF
Load port UI
MDAT
Mixed mode
NFS Data transfer
HSMS / GEM Semi E37 compliant ethernet interface:
HSMS (E5 / E30 / E37)
GEM/SECS Automation interface (E4 / E5 / E30)
SEMI E84
SEMI E116
Hokuyo sensors for use with:
Overhead transport (OHT)
Remote guided vehicles (RGV/AGV)
Auto switch for dual use environments
Basic automation package: E39, E87, E90 (Carrier management/wafer tracking)
Advanced automation package E40. E94 (Process job, control job)
Spatial population analysis:
Power options
Array segmentation
Patch images: 64x64
Pixel perfect
RBB
RBMT
Sensitivity tuner
NPA
Photo option:
FEM
PWQ
Interface:
Data transfer
DVD-R
Ethernet
23XX Options :
Pixel size:
Visible: 0.25/0.39/0.62
IV Broadband & narrowband: 0.12/0.16/0.20
Full sky: 0.12/0.16/0.20
Edge contrast: 0.12/0.16/0.20
Hardware optic :
BB Visible pixels (0.62 mm, 0.39 mm, and 0.25 mm)
BB/I-Line/G-Line UV pixels (0.20 mm, 0.16 mm, and 0.12 mm)
Edge contrast
1600 MP PS Image computer
Array / Random modes
High mag review optics
Anti-blooming TDI
High resolution review camera
General system info:
Loading configuration: FOUP
(2) Cassette
(2) FOUP Positions
System on-line: Yes
Line conditioner: Yes
Cables: Yes
Fan module: Yes
Shipping brackets installed upon deinstall: Yes
GEM/SECS Interface: Yes
Hard disk: 876G
Currently stored in cleanroom
2007 vintage.
KLA/TENCOR 2367 ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Chipherstellung. Es kombiniert fortschrittliche Bildgebungs-, Interferometrie- und Mikroskopietechnologien, um eine unübertroffene Bildgenauigkeit und Leistung zu bieten. Das System beinhaltet eine Werkzeug-Arbeitszelle, in der ein digitales Bildprojektionsgerät mit verschiedenen konfigurierbaren Parametern untergebracht ist. Die integrierte fünfachsige Kinematik der KLA 2367 ermöglicht eine hochpräzise Bewegung von Projektionsvorrichtung und Probe über drei Achsen bei gleichem Fokus. TENCOR 2367 nutzt helle Felder, Dunkelfelder und polarisierende Beleuchtung, um Kontrast und Reflektivität zu bieten, um Kantenerkennung und Kartierung einer Vielzahl von Fehlertypen zu ermöglichen, einschließlich Kantenfehler, feine Linientrennungen und Fehlstellungen. 2367 verwendet auch fortschrittliche Algorithmen zur Kontrastverbesserung, Blockierung und Clustering, Bildsegmentierung und Kartierung, die die Erkennung der subtilsten Anomalien ermöglichen. Das Gerät verwendet fortgeschrittene Bildfiltertechniken wie Fehlerklassifizierung, Rauschreduzierung und Falschfarbkontrast, um die Anzahl der Fehlalarme weiter zu reduzieren und die höchste Genauigkeit der Waferinspektion zu gewährleisten. Auf der Werkzeugebene umfasst die Maschine ein Benutzeroberflächen-Softwarepaket mit anpassbaren Funktionen für Schnittstelle, Setup, Inspektion/Kalibrierung, Fehlerüberprüfung und Prozessoptimierung. Die Benutzeroberfläche kombiniert intuitive Bedienelemente mit einem grafischen Display und mehrsprachiger Unterstützung. Die Benutzeroberfläche umfasst schnelle und einfache Bildüberprüfung, Fehlergröße und Standortzuordnung mit verschiedenen Berichtsfunktionen. Berichte können in branchenüblichen Formaten für die einfache Datenweitergabe und -speicherung angepasst und exportiert werden. KLA/TENCOR 2367 ist auf Genauigkeit und Zuverlässigkeit ausgelegt und bietet Funktionen, die Anwendern helfen, die Fehlerdiagnose, Überprüfung und Verarbeitung schnell und effizient durchzuführen. Die KLA 2367 ist mit ihrem flexiblen, modularen Aufbau und der integrierten Software ein unverzichtbares Werkzeug für Wafer- und Maskeninspektionsanwendungen.
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