Gebraucht KLA / TENCOR 2367 #9226903 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2367 ist eine vollautomatische, berührungslose Masken- und Waferinspektionsanlage. Es ist für die Fehlererkennung, kritische Dimensionsmessung und Überwachung des Musterlayouts auf Photomasken und Wafern ausgelegt. Das System nutzt fortschrittliche Mustererkennung und proprietäre Optik, um sowohl planare als auch 3D-Fehler auf der Vorder- und Rückseite der Masken und Wafer spontan zu identifizieren. Es verfügt außerdem über eine intuitive, einfach zu bedienende Softwareschnittstelle, mit der sowohl erfahrene als auch Anfänger Prozessoptimierungen schnell und effizient programmieren und überwachen können. Das Gerät kann konfiguriert werden, um eine Vielzahl von Teilen, einschließlich Wafer so klein wie 4-Zoll bis so groß wie 12-Zoll und Masken so klein wie 4-Zoll bis so groß wie 25-Zoll. Die KLA 2367 verwendet eine Hochgeschwindigkeits-LED-Quelle, um einen maximalen Durchsatz zu erreichen und gleichzeitig eine Inspektionsgeschwindigkeit von 8 Mikrometer pro Sekunde für die Front- und Rückseiteninspektion zu ermöglichen. Die Maschine verfügt auch über eine erweiterte Bildverbesserung, die Fokussteuerung, Verstärkungskontrolle und Ausrichtungskorrektur umfasst. Darüber hinaus verfügt TENCOR 2367 über ein spezialisiertes Beleuchtungswerkzeug, das die Menge an Wafer- und Maskendrehung, die zur Überprüfung auf Defekte erforderlich ist, erheblich reduziert. Durch diese Maßnahme werden auch mögliche Fehler beseitigt, die bei längerer Exposition gegenüber dem Inspektionslicht auftreten können. Neben der überlegenen Optik und der fortschrittlichen Mustererkennung bietet 2367 eine Vielzahl automatisierter Software- und Datenanalysen, einschließlich statistischer Prozesskontrolle (SPC), Fehlerklassifizierung und Tools für die Nachprüfung. Dadurch kann das Asset kritische Fehler mit großer Genauigkeit erkennen und protokollieren. Die Software enthält außerdem eine umfassende Berichtsgenerierungsfunktion, die anpassbare Berichte bereitstellt, die sowohl für die Rückverfolgbarkeit als auch für statistische Analysen geeignet sind. Das Modell verfügt auch über ein „Point & Look“ -Modul, das es einem Benutzer ermöglicht, bestimmte Positionen auf Maske und Wafer schnell und einfach zu ermitteln und zu überprüfen. Dadurch entfällt die Notwendigkeit einer manuellen Mikroskopie oder anderer Techniken, was eine schnellere Analyse und höhere Genauigkeit ermöglicht. Darüber hinaus können Geräte der KLA/TENCOR 2367 in andere Geräte integriert werden, was einen umfassenden, automatisierten Analyseprozess ermöglicht. Letztendlich bietet KLA 2367 eine unübertroffene Fehlererkennung und eine kritische Maßmessung, die die Inspektion einer Vielzahl von Photomasken und Wafern ermöglicht.