Gebraucht KLA / TENCOR 2370 #9184317 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2370 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage der nächsten Generation, die eine hochauflösende Inspektion für Lithographie-Retikel und Wafer bietet. KLA 2370 bietet überlegene bildgebende Funktionen mit fortschrittlichen Laserbeleuchtungsquellen, einschließlich eines variablen Punktlasers und einer Helligkeitsfeldbeleuchtung. Das bildgebende System ermöglicht die Inspektion des gesamten Sichtfeldes von Niederspannungs- bis zu hochauflösenden Bildern. Das Gerät bietet zudem automatische Mustererkennungs- und Fehlerklassifizierungsmöglichkeiten, die eine schnelle und genaue Identifizierung von für herkömmliche Technologien unsichtbaren Minutenfehlern ermöglichen. TENCOR 2370 bietet zweistufige Bildverarbeitungs- und Analysefunktionen, die eine schnellere Waferinspektion ermöglichen. Die erste Stufe der Analyse verwendet proprietäre Algorithmen, um das abgetastete Muster mit dem Referenzmuster zu vergleichen, was eine schnelle Abbildung mit verschiedenen Auflösungen ermöglicht. Die zweite Stufe der Analyse verwendet eine Kombination aus maßgeschneiderten phasenverschobenen Algorithmen und einer Musterklassifizierungsmaschine, um Fehler zu erkennen und zu klassifizieren. Diese Kombination von Techniken sorgt für höchste Genauigkeit bei der Fehlererkennung. 2370 ist für den Einsatz in Produktions- und Entwicklungsumgebungen konzipiert. Es unterstützt eine breite Palette von Substraten, darunter Glassubstrate, Galliumarsenid (GaAs) und Lithographie-Retikel. KLA/TENCOR 2370 Maschine ist für die einfache Integration mit führenden Lithographie-Systemen konzipiert und kann in Verbindung mit Messtechnik, Inspektion und Fehlerüberprüfung Ausrüstung verwendet werden. Das Tool bietet erweiterte Automatisierungsfunktionen sowie erweiterte Berichte und Analysen. KLA 2370 asset bietet eine breite Palette von Bilderfassungs- und Analysefunktionen, die schnellere Durchlaufzeiten und geringere Fehlerabdeckungsraten ermöglichen. Es ermöglicht auch eine weitere Fehlerreduktion durch fortgeschrittene Fehlerreduzierungsalgorithmen. Darüber hinaus bietet das Modell eine verbesserte Skalierbarkeit und Flexibilität zur Unterstützung einer Vielzahl von Produktionsanforderungen. Insgesamt ist TENCOR 2370 eine fortschrittliche und leistungsstarke Ausrüstung mit überlegener Bildqualität, schneller Waferinspektion und beispielloser Fehlerklassifizierungsgenauigkeit für die Masken- und Waferinspektion. Das System ist auf einfache Integration ausgelegt und sowohl für Produktions- als auch für Entwicklungsumgebungen skalierbar. Die fortschrittlichen Fehlerreduktionsalgorithmen des Geräts ermöglichen eine verbesserte Verbindungsgenauigkeit und Fehlerabdeckungsrate.