Gebraucht KLA / TENCOR 239 / 219 #76226 zu verkaufen
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ID: 76226
Weinlese: 1989
Mask inspection systems
KLA 20 (RIA1) Data server
(2) PCBs
1989 vintage.
KLA/TENCOR 239/219 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur optischen Inspektion von Halbleiterscheiben. Das System verfügt über eine fortschrittliche, hochauflösende digitale Bildgebungseinheit, die mit einer Reihe leistungsfähiger Bildverarbeitungsalgorithmen gekoppelt ist. Das Paket enthält benutzerdefinierte Softwareanwendungen zur Optimierung der Fehlererkennung einschließlich automatischer Fehlerüberprüfung (ADR) und 2D-Morphologie. Das ADR-Tool bietet vier Fehlertypen Inspektion mit schnellen Reaktionszeiten und genaue Fehlerstelle durch seine Mehrfachpassmethode. Der morphologische 2D-Algorithmus verwendet Neuro-Fuzzy-Berechnungstechniken, um subtile Mustervariationen zu erkennen. Das bildgebende Array der Maschine hat eine große Pixelgröße von 512 x 1024, mit einem 175 x 250 mm großen Sichtfeld, das Bilder von hoher Qualität aufnimmt. Die Bilder werden durch die Integration eines gekreuzten Gitterfilters für verbesserte Helligkeit und Kontrast verbessert. Es gibt auch einen erweiterten, einfarbigen Farbabstufungsmodus für verbesserte falsche Farbabstoßung und Kantenerkennung. Das KLA 239/219-Paket basiert auf einem intuitiven Windows-Bedientool, das eine einfache Bedienung und schnelle Anpassung ermöglicht. Es ist für die Integration mit bestehenden Maskeninspektionswerkzeugen wie der KLA eigenen Contura Inspection Suite konzipiert. Zu den Hauptmerkmalen des Pakets gehören Mustertyperkennung, Fehlerüberprüfungsautomatisierung, Subpixel-Maskenausrichtung, Laserscannen, Overlay-Analyse und vieles mehr. Das Design der Anlage wurde für eine hohe Leistung in einer Vielzahl von Lithographieelementen optimiert, darunter Schütze, Barriereschichten und Passivierungsmaterialien. Die fortschrittlichen Algorithmen und die leistungsstarke Prozessorarchitektur bieten einen schnellen Betrieb und sind somit eine kostengünstige Lösung, um die hohen Fertigungsanforderungen von heute zu erfüllen. TENCOR 239/219 eignet sich hervorragend für die Wafer- und Maskeninspektion in der Halbleiterindustrie, wo die Identifizierung von Defekten und hochauflösende, hochgenaue Bildgebung entscheidend sind, um die Produktqualität zu gewährleisten. Mit seinem kompakten Design und der intuitiven, benutzerfreundlichen Oberfläche ist dieses Modell eine gute Wahl für jede Halbleiterherstellungsanlage.
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