Gebraucht KLA / TENCOR 239E #9041907 zu verkaufen

KLA/TENCOR 239E Maske und Wafer Inspection Equipment ist das branchenführende Werkzeug zur Inspektion kritischer optischer und elektrischer Eigenschaften von Masken und Waferkomponenten, die bei der Herstellung von Leiterplatten und Halbleiterbauelementen verwendet werden. KLA 239E verwendet fortschrittliche Laser- und Machine-Vision-taktile Inspektionstechnologien sowie innovative proprietäre Messtechnik-Systeme zur Erkennung und Charakterisierung von Defekten bis hin zu Submikron-Größen, einschließlich Pin/Pad-Shorts, Rückständen, Brücken, Brücken, Fehlstellungen und mehr. TENCOR 239E wurde für Benutzerfreundlichkeit und Leistung entwickelt und ist ein Multisensorsystem, das mit gleichzeitiger Leistung, Blitzen und optischer Inspektion ausgestattet ist. Es verfügt über eine automatische Ausrichtung mit der TetraTile-Technologie, hochauflösende Bildgebung und einzigartige Dual-Vision-Funktionen, die eine Untersuchung aus zwei verschiedenen Blickwinkeln ermöglichen. Mit OmniView und Laserstandorten gleichzeitig können Anwender Fehler auch in den anspruchsvollsten Maskenzielen erkennen. Das Gerät verfügt zudem über eine vereinfachte Benutzeroberfläche mit einer intuitiven Wafer-Map-Anzeige und erweiterten programmierbaren Chip-Vorlagen. Das einzigartige optische Tribrid-Design von 239E umfasst drei Komponenten - einen Laser, eine CCD-Kamera und eine Maske -, um anspruchsvolle Bilder von Waferkomponenten zu erfassen und die kleinsten Fehler zu erkennen. Es kann Auflösungsbilder auf Mikroniveau mit 65 türkisfarbenen Pixeln pro 100um aufnehmen. Der LED-basierte Leistungsmechanismus von KLA/TENCOR 239E erhöht den Durchsatz und die Zuverlässigkeit, indem genaue Pixelmessungen auf 1.0um gewährleistet werden. Für die Messtechnik ist KLA 239E in die Software Ruß NanoAnalysis integriert, mit der Anwender kritische Abmessungen, Höhe und Größe der Funktionen, Waferprofil, Mittellinie und Kantenregistrierung steuern können. Dieses leistungsstarke Software-Tool gibt Benutzern die Möglichkeit, die 3D-Form komplexer Komponenten zu bestimmen und die Messergebnisse zu verwenden, um Berichte zu erstellen und Daten zu analysieren. Insgesamt bietet TENCOR 239E Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine schnelle, effiziente und zuverlässige Fehlererkennungs- und Messfähigkeiten für Qualität und Ertragsverbesserung. Es ist die ideale Lösung für jede Organisation, die nach einem ausgeklügelten und präzisen Inspektionswerkzeug sucht.