Gebraucht KLA / TENCOR 2410 Viper #9206451 zu verkaufen

ID: 9206451
Weinlese: 2001
Macro defect inspection system 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2410 Viper ist ein leistungsstarkes automatisiertes Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Der Viper wurde für Lithografen und Verpackungsingenieure in der Halbleiterproduktionsbranche entwickelt und bietet umfassende physikalische Fehlererkennung und Inline-Prozesskontrolle sowohl für die Wafer- als auch für die Reticle-Level-Maskeninspektion. Der Viper verwendet eine innovative optische Bildgebungsarchitektur „DualVision“, um eine 0,5-Mikron-Auflösung, eine hohe Empfindlichkeitsprüfung und eine 0,2-Mikron-Overlay-Genauigkeit auf CD-Bildern und gemusterten Inspektionsbildern bereitzustellen. Eine intuitive und benutzerfreundliche Benutzeroberfläche ermöglicht die Datenerfassung, -analyse und -berichterstattung. Die Viper enthält auch ein patentiertes „Laser Imaging System“ (LIS), um Fehler sowohl in der Konstruktion als auch in der Fertigung zu erkennen und eine größere Abdeckung als andere führende Maskeninspektionssysteme zu bieten. Der Viper ist in der Lage, Fehlerinspektionen und Prozesskontrollen zu integrieren und verfügt über integrierte Prozesskontrolle auf Kameraebene und erweiterte Fehlerklassifizierungsfunktionen. Darüber hinaus unterstützt es die In-Fab-Produktion mit Zykluszeiten von bis zu 5 Minuten und automatischer Datenanalyse mit hohem Durchsatz. Seine erweiterten Automatisierungsfunktionen und integrierten Prozesssteuerungsalgorithmen ermöglichen es Benutzern, Prozessänderungen schnell und zuverlässig zu erkennen, zu visualisieren und zu messen. Die Viper kommt auch mit einer Reihe von erweiterten Funktionen, einschließlich einer „gemusterten Kante und Ecke Trigger“, die schnelles Starten oder Stoppen für die Kanten- oder Eckenuntersuchung ermöglicht, eine „Multi Exposure Stitch“ -Funktion, um mehrere Belichtungsbereiche während des Nähens und der Neuausrichtung auszurichten, und eine „Open Beam Inspection“ -Technik. KLA 2410 Viper ist die ideale Lösung für leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionen. Es ist schnell, präzise und intuitiv zu bedienen und bietet eine umfassende Fehlererkennung und Prozesskontrolle. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und der einfachen Einrichtung ist es das perfekte System für Lithografen und Verpackungsingenieure.
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