Gebraucht KLA / TENCOR 2435 Viper #293775231 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2435 Viper ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung und Charakterisierung von Defekten auf Masken- und Halbleiterscheiben. Dieses System bietet eine Kombination aus hochauflösender Bildgebung und fortschrittlicher Messtechnik, um den Erfolg bei der Prozesskontrolle und Qualitätssicherung zu gewährleisten. KLA 2435 Viper arbeitet durch die Kombination von fortschrittlicher laserbasierter optischer kritischer Dimension (OCD) mit fortschrittlicher Detektortechnologie. Die Laserschnittstelle liefert hochauflösende Bilder von Maske und Wafer mit Genauigkeiten bis zu 0,02. Dies führt zu einer hohen Präzision, die genaueste Mustermessungen und Analysen ermöglicht. Die integrierten Detektoren ermöglichen ein breiteres Spektrum an Inspektionen, wie fehlerhafte Düseninspektion, Dunkelfeldbildgebung und Kontaminationserkennung. Zusätzlich bietet TENCOR 2435 Viper aufgrund seiner erhöhten Empfindlichkeit auch die Fähigkeit der Oberflächenrauhigkeitsmesstechnik. 2435 Viper verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die einen einfachen Zugriff auf die Funktionen und Einstellungen des Geräts ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht der modulare Aufbau eine einfache Neukonfiguration - so können Anwender schnell zwischen Inspektionen wie Wafer und Maskenprüfung wechseln. Darüber hinaus unterstützt KLA/TENCOR 2435 Viper eine Reihe von Software wie die Automated Defect Recognition (ADR) Maschine - und ermöglicht eine verbesserte Erkennung und Berichterstattung für Benutzer, die Masken und Wafer mit komplexen Mustern oder feinen Pitch-Geräten inspizieren. Das Tool kommt auch mit einer Vielzahl von erweiterten Analyse-Tools, wie die Kalibrierung und Kalibrierung Offline (CCO) Modul. Dieses Modul bietet eine erweiterte Mustererkennung, die es dem Benutzer ermöglicht, Muster auf der Maske oder dem Wafer automatisch zu überwachen und eine kontinuierliche Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Zusammenfassend ist KLA 2435 Viper eine hochentwickelte Mask-und-Wafer-Inspektion, die zur Verbesserung der Qualitätskontrolle und des Ertragserfolgs entwickelt wurde. Dieses Modell kombiniert hochauflösende Bildgebung mit fortschrittlichen messtechnischen Funktionen und einer intuitiven grafischen Oberfläche. Darüber hinaus unterstützt das Gerät eine Reihe fortschrittlicher Analysewerkzeuge, die eine verbesserte Erkennung und Genauigkeit beim Vergleich der Probe mit vordefinierten Standards ermöglichen.