Gebraucht KLA / TENCOR 2435 Viper #9177839 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2435 Viper ist eine fortschrittliche automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die speziell für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es ist mit einem 6 „oder 8“ Wafer Deck, eine hochauflösende Farbe Digitalkamera und maßgeschneiderte Optik konstruiert. Es ist in der Lage, Hochgeschwindigkeitsprüfungen an verschiedenen Arten von Photomasken und Wafern wie positivem Resist, negativem Resist und halbleitendem Resist durchzuführen. KLA 2435 Viper verwendet die neueste Machine-Vision-Technologie, um Fehler an einer Maske oder einem Wafer mit einem Lasersystem genau zu erkennen. Die Einheiten-Operationen sind in zwei grundlegende Prozesse unterteilt: Bildgebung und Analyse. Der bildgebende Prozess erzeugt ein Auflösungsbild mithilfe einer Laserlinienmaschine, und die Analysekomponente interpretiert die erfassten Bilddaten. Das Tool ist mit fortschrittlichen Algorithmen ausgestattet, um verschiedene Arten von Fehlern zu erkennen, und sie werden in drei Kategorien eingeteilt: kritisch, allgemein und marginal. Der Vermögenswert kann auch Linienbreiten und Registrierung mit hoher Genauigkeit messen. Es ist in der Lage, sowohl planare als auch gemusterte Wafer bis zu einer Größe von 6 „oder 8“ zu überprüfen. Alle prüfbaren und Analyseparameter sind benutzerdefiniert. Das Modell enthält auch eine Vielzahl von redundanten Bildgebungstechniken, die falsche Fehlererkennungen verhindern. Neben den Möglichkeiten der Masken- und Wafer-Inspektion bietet TENCOR 2435 Viper auch eine nicht-menschliche Benutzeroberfläche. Es ermöglicht dem Benutzer, über eine textbasierte Menüstruktur auf die Funktionen des Geräts zuzugreifen, um leicht auf die erweiterten Funktionen des Systems zugreifen zu können. 2435 Viper Einheit enthält auch einen Datenüberprüfungsprozess, der es Benutzern ermöglicht, die gesammelten Daten zu überprüfen und die festgestellten Fehler zu analysieren. KLA/TENCOR 2435 Viper ist aufgrund der hochauflösenden Laserbildgebung, des schnellen Durchsatzes und der genauen Fehlererkennung eine ideale Wahl bei der Masken- und Waferinspektion. Es bietet eine effiziente und zuverlässige Möglichkeit, fehlerhafte Bilder zu identifizieren und die Produktionsausbeuten für serienmäßig hergestellte Halbleiter zu erhöhen.