Gebraucht KLA / TENCOR 2438 Viper #9274075 zu verkaufen
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ID: 9274075
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Macro defect inspection system, 12"
2010 vintage.
KLA/TENCOR 2438 Viper Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein hochpräzises, automatisiertes optisches Inspektionswerkzeug, das entwickelt wurde, um physikalische und elektrische Tests auf einer breiten Palette von Wafern und Masken durchzuführen, die in der Halbleiter- und IC-Fertigung verwendet werden. KLA 2438 Viper ist mit fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmen und Hardware ausgestattet, um die subtilsten Partikel und Defekte auf einem maskierten Rahmen oder Wafer zu erkennen. Das System ist in der Lage, Bilddaten mit einer Auflösung von 0,5 µm/Pixel über ein großes Sichtfeld zu messen. Dadurch kann das Gerät kleine Abmessungen und lokale Topographie auf der Oberfläche des Wafers genau überprüfen und messen. Der Viper kann auch Fehler und Partikel bis zu Größen von bis zu 0,3 µm identifizieren, während er eine Vielzahl anderer Parameter wie Form, Form und Strahlungsmessungen hält. In Bezug auf den Betrieb bietet TENCOR 2438 Viper eine bedienerfreundliche Benutzeroberfläche mit anpassbaren Optionen. Dadurch kann der Anwender das Instrument schnell auf die gewünschten Einstellungen konfigurieren und Aufträge zur Durchführung der Inspektion einrichten. Darüber hinaus bietet die robuste Plattform eine Echtzeitanalyse von Defekten, die es dem Anwender ermöglicht, schnell Korrekturmaßnahmen zu ergreifen, um die Anzahl defekter Komponenten zu reduzieren oder den Herstellungsprozess anzupassen. Darüber hinaus umfasst die 2438 Viper Mask & Wafer Inspection Einheit optische Bänke, Transmissionsboxen, Radiusmessgeräte, Infrarotkameras und eine Reihe von Bildanalysewerkzeugen. Diese Kombination von Werkzeugen bietet eine komplette Masken- und Wafer-Inspektionslösung, die zuverlässig und kostengünstig für Halbleiterbauelemente und IC-Hersteller ist. KLA/TENCOR 2438 Viper liefert außergewöhnliche Leistung mit ausgezeichnetem Signal-Rausch-Verhältnis, was es ideal für die Inspektion von Breitband-Maske und Wafer-Proben macht. Darüber hinaus unterstützt das Gerät eine breite Palette von Analysen wie elektrische und optische Inspektionen sowie messtechnische Inspektionen. Dadurch kann der Anwender Fehler oder Partikel auf dem Wafer oder der Maske schnell erkennen und ggf. Korrekturmaßnahmen ergreifen. Abschließend ist KLA 2438 Viper Mask & Wafer Inspection Machine eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterbauelement und IC-Hersteller. Dieses Instrument kombiniert ausgefeilte Bildverarbeitungsalgorithmen mit einer robusten Hardware- und Softwareplattform, um eine zuverlässige Lösung für die Durchführung physikalischer und elektrischer Tests auf einer breiten Palette von Wafern und Masken zu bieten. Mit seinen Echtzeit-Analysefähigkeiten und fortschrittlichen Bildanalysetools ist TENCOR 2438 Viper ein zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion.
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