Gebraucht KLA / TENCOR 2551 #293616226 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2551 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein automatisiertes optisches Inspektionssystem entwickelt, um Fehler in einer Vielzahl von Halbleitermasken und Wafern zu identifizieren. Dieses Gerät verwendet eine Kombination aus Optik, einer Bewegungsmaschine und fortschrittlichen Mustererkennungsalgorithmen, um Fehler in der Maske und der Wafer-Hintergrundbeleuchtung zu erkennen und zu identifizieren. KLA 2551 kann Fehlererkennung Unterstützung für die gesamte Palette der Maske und Wafer Produktionstechnologie bieten, von einfachen Aluminium bis zu komplexeren Multi-Metall, Mehrschichtwiderstand und Kondensatorstrukturen. Das Inspektionswerkzeug TENCOR 2551 besteht aus drei Hauptkomponenten: einem Projektionsgerät, einem XYZ-Bewegungsmodell und einer Lichtquelle. Die Projektionseinrichtung besteht aus drei Objektiven: einer Objektivlinse, einer Stempel-zu-Chip-Projektionslinse und einer Feldprojektionslinse. Das Objektiv projiziert das Bild aus der Matrize auf den Chip, während das Projektionsobjektiv verwendet wird, um das Bild aus der Maske auf den Chip zu projizieren. Die Feldprojektionslinse wiederum dient dazu, ein größeres Bild aus dem gesamten Wafer auf den Chip zu projizieren. Der Scanner kann ein Vollfeldbild des Wafers in benutzerdefinierten Auflösungen scannen und mit einem Standardmaskenmuster vergleichen. Auf diese Weise können 2551 Fehler schnell und genau erkennen und identifizieren. Darüber hinaus kann es verwendet werden, um musterabhängige Fehler, die durch falsche Filmdicke, Biegung, Fehlregistrierung und andere Probleme verursacht werden, schnell und genau zu erkennen. Das Bewegungssystem besteht aus einer zweiachsigen linearen Stufe und zwei Drehstufen. Dadurch kann sich die Projektionseinheit effizient und genau an die gewünschte Position anpassen, um Messungen und Inspektionen vorzunehmen. Die Lichtquelle kann so gewählt werden, dass sie dem Signalbereich und der Signalstärke für verschiedene Materialien entspricht. KLA/TENCOR 2551 ist mit einer erweiterten Software-Suite ausgestattet, die Bildverarbeitung und künstliche Intelligenz (KI) -Algorithmen verwendet, um Fehler zu erkennen und zu identifizieren. Dazu gehören Algorithmen zur Identifizierung und Kategorisierung von Fehlern nach Größe, Form, Muster und Orientierung; zum Vergleich von Mängeln mit ihren Bezugspunkten; zum Identifizieren von Fehlern durch Mustererkennung; und zum Bestimmen ihrer wahren Natur und ihres Ortes. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, schnell und genau einen statistischen Bericht für jeden gefundenen Fehler zu erstellen. Zusammenfassend ist KLA 2551 Mask and Wafer Inspection Tool eine hochentwickelte, automatisierte Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um Fehler in einer Vielzahl von Halbleitermasken und Wafern schnell und genau zu erkennen und zu identifizieren. Es verfügt über eine Kombination aus optischen Elementen, fortgeschrittenen Bewegungs- und Lichtquellen und KI-gesteuerten Software-Algorithmen, um die genauesten Ergebnisse zu gewährleisten.